Высокая мощность початков керамические кронштейн
| Цена FOB для Справки: | 5,00 $ / шт. |
|---|---|
| Минимальный Заказ: | 100 Куски |
| Минимальный Заказ | Цена FOB для Справки |
|---|---|
| 100 Куски | 5,00 $/ шт. |
| Условия Платежа: | T/T |
|---|
Описание Товара
Информация о Компании
Описание Товара
Спецификации 10mmx10mm (3x3)
Количество 500KK
Упаковывать вакуума описания
Введение:
Идея проекта субстрата Cikuan керамическая для того чтобы позволить наивысшую мощность, малый размер, развитие пользы высокой яркости СИД конструировала преимущества Cikuan для того чтобы заменить доску системы, много пакет обломока СИД сразу к вышеуказанному, и после этого вторичным оптически размером объективов более компактным тома продукта и воспрепятствовала вашим продуктам СИД уменьшить зону источника света, для уменьшения материальных затраты, системы, исключает агрегат людских цен, поэтому ваш выпуск облигаций провода обломока пакета более быстрый сразу на субстрате, вместе с пользой керамического охлаждающего действия превосходн, но также позволить вам жизнь СИД более яркую и более длиннюю.
Этот продукт целесообразн для высокомощного пакета СИД, например: Улица СИД
Продукты:
Al2O3 (3X3) - ~ 6W субстрата 5 УДАРА керамическое
Al2O3 (3X3) - ~ 10W субстрата 9 УДАРА керамическое
Al2O3 (5X5) - ~ 25W субстрата 20 УДАРА керамическое
AlN (7X7) - субстрат 50W УДАРА керамический
AlN (10X10) - субстрат 100W УДАРА керамический
Спецификации:
Термально проводимость: Al2O3 - 23 27W/mk AlN - 170 ~~ 240W/mk
Palting: AG, Au
Размер: 10mmx10mm (3x3), 12mmx12mm (3x3), 25mmx22mm (5x5), 28mmx28mm (7x7), 32mmx32mm (10x10)
Толщина: ~ 1.2mm 1mm
Сила нося: 5W ~ 100W
Количество 500KK
Упаковывать вакуума описания
Введение:
Идея проекта субстрата Cikuan керамическая для того чтобы позволить наивысшую мощность, малый размер, развитие пользы высокой яркости СИД конструировала преимущества Cikuan для того чтобы заменить доску системы, много пакет обломока СИД сразу к вышеуказанному, и после этого вторичным оптически размером объективов более компактным тома продукта и воспрепятствовала вашим продуктам СИД уменьшить зону источника света, для уменьшения материальных затраты, системы, исключает агрегат людских цен, поэтому ваш выпуск облигаций провода обломока пакета более быстрый сразу на субстрате, вместе с пользой керамического охлаждающего действия превосходн, но также позволить вам жизнь СИД более яркую и более длиннюю.
Этот продукт целесообразн для высокомощного пакета СИД, например: Улица СИД
Продукты:
Al2O3 (3X3) - ~ 6W субстрата 5 УДАРА керамическое
Al2O3 (3X3) - ~ 10W субстрата 9 УДАРА керамическое
Al2O3 (5X5) - ~ 25W субстрата 20 УДАРА керамическое
AlN (7X7) - субстрат 50W УДАРА керамический
AlN (10X10) - субстрат 100W УДАРА керамический
Спецификации:
Термально проводимость: Al2O3 - 23 27W/mk AlN - 170 ~~ 240W/mk
Palting: AG, Au
Размер: 10mmx10mm (3x3), 12mmx12mm (3x3), 25mmx22mm (5x5), 28mmx28mm (7x7), 32mmx32mm (10x10)
Толщина: ~ 1.2mm 1mm
Сила нося: 5W ~ 100W
Адрес:
Room 2005, Building D4, Wanda Plaza, No. 13, Jinzhong Rd., Huli District, Xiamen, Fujian, China
Тип Бизнеса:
Производитель/Завод
Диапазон Бизнеса:
Здоровье и Медицина, Производительный и Обрабатывающий Механизм, Химическая Промышленность, Электричество и Электроника
Основные Товары:
Керамические, сколов, подложку, Metallization, тонкий
Введение Компании:
Мы поставляем китайской и японской технологии для производства precision керамического производства и обработки данных поставщиков. Мы также может быть отправлен с Тайванем или Сямынь филиал, обеспечивает наиболее удобный сервис.
Продукция в основном для полупроводниковых и фотоэлектрические области, таких как national semiconductor ion implanter\MOCVD\светодиодная панель режущего машин и других приложений. Например: MOCVD керамические лоток\вакуумной зажимной патрон\керамические робота и других precision керамических деталей.
Основной обработки материалов: оксид алюминия (Al2O3)\обедненной смеси(ZrO2)\карбид кремния (SiC)\кремния nitride(Si3N4)\алюминий nitride(AlN)\графит\кварц и т.д. Технологии материалов.
Продукция в основном для полупроводниковых и фотоэлектрические области, таких как national semiconductor ion implanter\MOCVD\светодиодная панель режущего машин и других приложений. Например: MOCVD керамические лоток\вакуумной зажимной патрон\керамические робота и других precision керамических деталей.
Основной обработки материалов: оксид алюминия (Al2O3)\обедненной смеси(ZrO2)\карбид кремния (SiC)\кремния nitride(Si3N4)\алюминий nitride(AlN)\графит\кварц и т.д. Технологии материалов.
