Китайский экономичный факел Автономный вакуумный плазменный уборочная техника, используемая для Процедура обработки поверхности плазмы в датчике MEMS с приспособлением
Китайский экономичный факел Автономный вакуумный плазменный уборочная техника, используемая для Процедура обработки поверхности плазмы в датчике MEMS с приспособлением
Наименование оборудования: Автономная машина для очистки вакуумной плазмы Номер модели : VPC42 Производитель : Beijing Torch SMT Incorporated Company
I. Название оборудования, номер типа, происхождение и дата поставки 1.1 Название оборудования: Машина для очистки вакуумной плазмы 1.2 номер модели : VPC42 1.3 год Страна происхождения (страна, производитель): Beijing Torch SMT Incorporated Company 1.4 Дата поставки: Через 4-8 недели после вступления в силу договора 1.5 используется в основном для обработки поверхности плазмы в полупроводниковых полках, таких как кремниевые пластины, стеклянная подложка, керамическая подложка, несущая пластина IC, медная свинцовая рамка, Крупноформатная односторонняя плата питания подложки, модуль IGBT, датчик MEMS с креплением, микроволновое устройство, фильтр, РЧ-устройство и т.д. II Основные технические параметры: 2.1 объем вакуумной камеры: 42 л. 2.2 градусов вакуума: Максимальная степень вакуума пылесоса VPC42 составляет Менее 2 Па (механический сухой насос 40 л/мин) 2.3 эффективное место очистки: Одна зона очистки: 350 *350 мм 15 слоя: 15-мм интервал: 40 КГЦ 2 кВт промежуточная частота (обработка поверхности) 5 слоя: 50-мм интервал, 13,56 Гц, 300 Вт радиочастота (обработка звука, с водяным охлаждением) 2.4 Высота вакуумной камеры: Высота камеры: 350 мм (эффективный размер) 2.5 Температура очистки: Низкотемпературная очистка (ниже комнатной температуры). 2.6 частота очистки: 30 с. 2.7 эффект очистки: Значение красновки может достигать 70. Угол падения воды составляет 15 градусов, и его можно оптимально контролировать в пределах 10 градусов (в мастерской чистота воздуха при отсутствии пыли класса 100 может быть очищена в течение 4 часов) 2.8 можно использовать газ: Аргон, азот, кислород, азотная водородная смесь, водород и тетрафторид углерода и т. д. 2.9 аппарат для очистки вакуумной плазмы VPC42 оснащен программной системой управления: Система управления программным обеспечением проста в эксплуатации, позволяет подключать управляющее оборудование, а также задавать различные кривые процесса очистки, а кривые можно задавать, изменять, сохранять и выбирать для использования в соответствии с различными процессами; программное обеспечение имеет собственную функцию анализа, которая может анализировать кривую процесса. Система управления программным обеспечением автоматически записывает данные процесса очистки, температурную кривую, время и данные, относящиеся к тревоге, в реальном времени, чтобы обеспечить отслеживаемость процесса очистки продукта. 2.10 калибровку оборудования не требуется, поэтому больше не придется взимать плату за калибровку. 2.11 энергопотребление в рабочем режиме: 2,5 КВТ, за исключением энергопотребления охладителя (промежуточная частота) 1,5 КВТ, за исключением энергопотребления охладителя (радиочастота) 2.12 функция сигнализации превышения температуры и записи. (стандартная конфигурация) Вакуумная плазменная чистящая машина VPC42 работает с защитой от перегрева поверхности заготовки, аварийной сигнализации, температурной защиты и записи всего станка во время очистки. 2.13 системы управления и анализа азотом, аргона и других потоков (программное обеспечение + оборудование). (Дополнительно) Вакуумная машина для очистки плазмы VPC42 функционирует в режиме реального времени путем управления и анализа технологических газов, таких как азот и аргон, потребляемый всей машиной, и может регистрировать и анализировать расход газа, ежедневный расход, еженедельный расход и расход в течение различных периодов времени в реальном времени. 2.14 Система сигнализации и анализа давления технологического газа (программное обеспечение + оборудование). (Дополнительно) VPC42 машина для вакуумной плазменной очистки функционирует по сигналу пониженного напряжения, записи и анализа источника технологического газа в процессе производства всего станка, что очень полезно для отслеживания качества продукции. 2.15 Система управления и анализа энергии (программное обеспечение + оборудование). (Дополнительно) Вакуумная плазменная установка VPC42 функционирует в режиме реального времени, она выполняет анализ энергопотребления и позволяет анализировать данные о потреблении электроэнергии в реальном времени, ежедневном потреблении электроэнергии, еженедельном потреблении электроэнергии, энергопотреблении в определенный период времени и т. д. 2.16 с системой статистического управления и анализа выходных данных (программное обеспечение + оборудование). (Дополнительно) Вакуумная плазменная чистящая машина VPC42 выполняет функции управления и анализа в реальном времени выходом вакуумных продуктов обработки всего станка. Он может регистрировать и записывать и анализировать результаты смены в реальном времени, ежедневные выходные данные, еженедельные выходные данные и ежемесячные результаты для отслеживания и анализа качества продукции. 2.17 подсистема интерфейса данных MES (программное обеспечение + аппаратное обеспечение). (дополнительно) Аппарат для вакуумной плазменной очистки VPC42 также функционирует интерфейсом данных MES всего станка, а систему MES можно выбрать и настроить для получения различных данных и анализа интеллектуального оборудования. 2.18 Габаритные размеры: 850*960*1680 мм (без индикатора сигнализации) 2.19 Внутренняя структура: См. правильный рисунок
III Базовый состав и конфигурация:
Нет
Описание
конфигурация
кол-во
1
вакуумная машина для плазменной очистки
Основная машина
1 комплект
2
Плазменная система питания
Стандартная конфигурация
1 комплект
3
Система измерения температуры
Стандартная конфигурация (2 группы термопар для измерения температуры, 1 для использования, 1 для резервного)
1 комплект
4
Вакуумная система
Стандартная конфигурация
1 комплект
5
Механический насос
Стандартная конфигурация
1 комплект
6
Система водяного охлаждения
Стандартная конфигурация (не входит в комплект поставки машины для промышленного охлаждения)
1 комплект
7
Промышленная система охлаждения
Дополнительно
1 комплект
8
Система технологического газа
Стандартная конфигурация (технологический газопровод и интерфейс)
1 комплект
9
Система защиты атмосферы азота
Стандартная конфигурация (исключая подачу азота)
1 комплект
10
программное обеспечение для установки для очистки плазмы с помощью вакуумного оборудования
Система управления и анализа объема технологического газа
Дополнительно
1 комплект
16
Система сигнализации и анализа давления технологического газа
Дополнительно
1 комплект
17
Система управления питанием и анализа
Дополнительно
1 комплект
18
Система управления и анализа содержания кислорода
Дополнительно
1 комплект
19
Система интерфейса данных MES
Дополнительно
IV VPC42 Технический параметр
Марка
Производитель
Beijing Torch SMT Incorporated Company
Замечания
Краткое введение
Происхождения
Пекин
Ключевые компоненты
Датчик температуры
ОМЕГА
Вакуумный насос
KYKY/BSC
Шаровой клапан
Японский бренд
Клапан сопротивления коррозии
Японский бренд
Низковольтная электрическая система
ШНАЙДЕР
Переключатель нижней отметки
Тайвань JICTEN/SCHNEIDER
Магнитный бесконтактный датчик
Omron
Нагреватель
ФОНАРИК
Ключевой технический индекс
Температура
Низкотемпературная очистка, температура поддерживается при комнатной температуре
Мин. Степень вакуума
5PA
Содержание кислорода
<1 стр./мин
Эффективность производства
20-120S
Индекс ключевого процесса
Отслеживаемость качества
1. Запись аварийного сигнала давления технологического газа. 2. Запись сигнала тревоги по содержанию кислорода. 3. Запись сигнала тревоги по перегреву. 4. Запись о несоответствию значения вакуума
Информации
1. Интеллектуальная функция. Если один из 4 перечисленных выше индикаторов не соответствует стандарту или подает сигнал тревоги, для обеспечения качества производства будет отображаться общий сигнал тревоги и запрос на остановку производства. 2. Система управления энергопотреблением, энергопотребление и потребление азота подсчитываются и отображаются в режиме реального времени в системе управления энергопотреблением. 3. Вся вышеуказанная информация может быть легко подключена к системе MES через интерфейс данных для облегчения принятия решений и управления группой управления.
Объектов
Мощность
380 В ПЕРЕМ. ТОКА, 20 А.
Газ
Сжатый воздух (CDA)0,5 МПа
Азот
0,5 МПа
Вакуум
Оснащен вакуумным сухим насосом
Примечание. Программное обеспечение для вакуумной установки для очистки плазмы Beijing Torch SMT Incorporated Company разработано независимой компанией Beijing Torch SMT Incorporated Company и Beijing Torch SMT Incorporated Company, в соответствии с которой право регистрации программного обеспечения без сертификации сторонних производителей признается.
Вакуумная машина для плазменной очистки от Beijing Torch SMT Incorporated Company уже получила ряд национальных патентов. Не рискуйте копировать!!
Сертифицированный Поставщик 
