• Высокочистота 99.999% Тунгстен, колющий мишень для тонкопленочного покрытия, вольфрамовый квадратный Прямоугольник Настройка цели
  • Высокочистота 99.999% Тунгстен, колющий мишень для тонкопленочного покрытия, вольфрамовый квадратный Прямоугольник Настройка цели
  • Высокочистота 99.999% Тунгстен, колющий мишень для тонкопленочного покрытия, вольфрамовый квадратный Прямоугольник Настройка цели
  • Высокочистота 99.999% Тунгстен, колющий мишень для тонкопленочного покрытия, вольфрамовый квадратный Прямоугольник Настройка цели
  • Высокочистота 99.999% Тунгстен, колющий мишень для тонкопленочного покрытия, вольфрамовый квадратный Прямоугольник Настройка цели

Высокочистота 99.999% Тунгстен, колющий мишень для тонкопленочного покрытия, вольфрамовый квадратный Прямоугольник Настройка цели

Application: Electronics, Industrial
Standard: GB
Purity: 99.999%
Alloy: Non-alloy
Shape: Powder
Type: Sputtering Target

Связаться с Поставщиком

Золотое Членство с 2022

Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями

Производитель/Завод
  • Обзор
  • Описание продукта
  • Профиль компании
  • Наша служба
  • ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ
Обзор

Основная Информация.

Модель №.
W-5Ntarget
Транспортная Упаковка
Wooden Box Package
Характеристики
customization
Торговая Марка
rheniumet
Происхождение
China
Код ТН ВЭД
4301962010
Производственная Мощность
10000piece/Year

Описание Товара

Описание продукта

 


Применение:

Вольфрамовые мишени высокой чистоты, вольфрамовые мишени высокой чистоты из титанового сплава и вольфрамово-кремниевые композитные мишени обычно применяются при напыление магнетрона для производства различных сложных и высокопроизводительных тонких пленочных материалов. Поскольку вольфрам высокой чистоты или сверхчистый вольфрам (5 Н или 6 Н) обладает высокой устойчивостью к электрон-миграции, высокой температурной стабильностью и способностью формировать стабильные силициды, он часто используется в качестве тонкой пленки в электронике как ворота, соединения, перехода и барьерный металл. Вольфрам сверхвысокой чистоты и силициды также используются в сверхкрупных интегральных схемах как слои сопротивления, диффузионные барьеры и т. д., а также в качестве материалов литника и соединительных материалов в полупроводниковых транзисторах с оксидом металла. Мишени для напыления вольфрамово-титанового сплава часто используются для создания переходных металлических слоев тонкопленочных солнечных элементов.

 

Технические характеристики:

Имя

Молекулярная формула Технические характеристики

Размер

Относительная плотность Размер зерна Частота дефектов
Вольфрамовый мишень

W

4 Н(99.99%)

Дюйм

мм

≥99%

≯50 мкм

0

5 Н(99.999%)

D(6,8,10,12)

H(0.25,0.5,0.75)

Диаметр 150–350

Толщина 6~25

Вольфрамовая титановая мишень

WTi10

WTi20

4 Н(99.99%)

≥99%

≯50 мкм

0

4N5 (99.995%)

 

 Химический компонент  

           Класс спецификации

Химический индекс

 W/(W+Ti)≥99.99%

 W/(W+Ti)≥99.995%

 W≥99.999%

Полное загрязнение следами

≯100 ppm

≯50 ppm

≯10 ppm

Индекс примесей (ppm)

Макс

Стандартное значение Макс Стандартное значение Макс Стандартное значение

Радиоактивные элементы

U

-

0.2

0.1

0.05

0.0008

0.0005

Я

-

0.2

0.1

0.05

0.0008

0.0005

Элементы из щелочного металла

Ли

1

0.05

0.02

0.01

0.01

0.003

Нет

5

1

0.5

0.2

0.1

0.05

K

5

1

0.1

0.05

0.05

0.03

MO,Re

10

5

10

5

1

0.5

FE,Cr

10

5

5

3

0.5

0.3

CA,Si,Cu,Ni,Al,Zn,SN,MN,Co,Hg,V

2

1

0.5

0.3

0.2

0.2

P,AS,SE

2

1

0.5

0.2

0.2

0.2

B,Pb,SB,Be,Ba,Bi,CD,GE,NB,Pt,Mg,ZR,Au,in,GA,AG

1

0.5

0.5

0.1

0.1

0.1

Все другие отдельные элементы

1

0.5

0.5

0.1

0.1

0.1

Анализ газа

(≯, ppm)

О

C

N

H

С.

30

20

20

20

10

 

В зависимости от назначения, существуют различные требования к содержанию примесей вольфрамовых мишеней высокой чистоты и вольфрамово-титановых мишеней. Как правило, химическая чистота должна быть в пределах от 99.99% до 99.999%. Мы также можем настроить другие спецификации, подходящие для применения в соответствии с требованиями пользователя.

Профиль компании

High Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target CustomizationHigh Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target CustomizationHigh Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target CustomizationHigh Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target CustomizationHigh Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target CustomizationHigh Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target CustomizationHigh Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target Customization

Наша служба

High Purity 99.999% Tungsten Sputtering Target for Thin Film Coating, Tungsten Square Rectangle Target Customization

ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ

 

В: Вы торгуете компанией или производителем?

О: Мы заводим.

В: Сколько времени у вас будет доставка?

Ответ: Обычно это 5-10 дней, если товар есть на складе. Или 15-20 дней, если товар не находится на складе, то это зависит от количества товара.

В: Вы предоставляете образцы? это бесплатно или дополнительно?

Ответ: Да, мы можем предложить образец бесплатно, но не платим стоимость перевозки.

В: Каковы ваши условия оплаты?

A: Оплата<=1000USD, 100% аванса. Оплата>=1000 USD, 30% T/T заранее, баланс перед отправкой.
Если у вас есть другой вопрос, свяжитесь с нами, как указано ниже:

 

Отправить ваш запрос напрямую данному поставщику

*От:
*Кому:
*Сообщение:

Введите от 20 до 4000 символов.

Это не то, что вы ищете? Опубликовать Спрос на Закупки Сейчас

Найти Похожие Товары по Категориям

Главная Страница Поставщика Товары Высококачественный фотоэлектрический материал Цель высокой чистоты Высокочистота 99.999% Тунгстен, колющий мишень для тонкопленочного покрытия, вольфрамовый квадратный Прямоугольник Настройка цели