• 99.95% Высокочистая Rhodium sputtering Target Plate / RH Мишень из родиевого металла
  • 99.95% Высокочистая Rhodium sputtering Target Plate / RH Мишень из родиевого металла

99.95% Высокочистая Rhodium sputtering Target Plate / RH Мишень из родиевого металла

Приложение: Промышленный
формулы: родий
классификация: Metal Traget
стандарт уклона: промышленный класс
сертификация: iso
форма: Rotary,Flat,Round

Связаться с Поставщиком

Производитель/Завод
Золотое Членство с 2023

Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями

Guangdong, Китай
, чтобы увидеть все проверенные метки силы (14)

Основная Информация.

Модель №.
CYT-Rh
Транспортная Упаковка
Wooden Box
Характеристики
Customized Size
Торговая Марка
CANYUAN
Происхождение
Китай
Производственная Мощность
1000PCS

Описание Товара

99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal TargetРодий — серебристо-белый и твёрдой металл. Родий — платиновый элемент группы с высокой отражающей способностью. Родий металл обычно не окисляется. Расплавление родия поглощает кислород, но высвобождение его во время затвердевания. Температура плавления родия выше, чем у платины, а его плотность ниже, чем у платины. Родий не растворяется в большинстве кислот. Родий в основном используется в качестве катализаторов родия, сплавов родия, родиевых покрытий, родиевых соединений в областях химии, нефти, стекла, электроники, стоматологии, ювелирные изделия, автомобили и так далее.

Материалы для напыления родия могут использоваться для нанесения тонкопленочных покрытий, компакт-дисков, декорирования, плоскопанельных дисплеев, функциональных покрытий, а также в других отраслях оптической информационной отрасли, таких как производство стекла и архитектурного стекла, оптическая связь и т.д. Основное применение родиевого металла в автомобильной промышленности используется в качестве каталитического нейтрализатора для преобразования вредных выбросов несгоревших углеводородов и оксида азота в безвредные газы. Также используется в стекольной промышленности для производства плоских стекловолокна и стекловолокна.


Мы можем сделать родий в родиевой проволоку, частицы родия, мишени для вытерения родия и т.д.;  
Чистота и технические характеристики могут быть настроены индивидуально.
Также к материалам мишени родия относятся сплавы платина-родия.
Описание Таблица анализа состава для цели 4N high-Purity Rhodium, как показано ниже:
  Спецификация целей
Приложение Материалы для поливинилфторида
Материалов Родий
Чистота 3N5
Размер индивидуальный
Толщина индивидуальный
Форма Изменяемый объект, тип кольца, тип листа, тип планок и тип трубки
Плотность 7,28 г/см3
Температура плавления 22600°C.
Метод производства литье

99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target

Наше преимущество
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target


Процесса
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target

Упаковочный рисунок
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target


Применение:
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target
99.95% High Purity Rh Rhodium Sputtering Target Plate / Rh Rhodium Metal Target

Связывание продукта
Материалов Чистота
(N)
Компонентов
(вес, %)
Плотность Плавление
 Точка
Тепловая
Проводимость
(WM-1K-1)
Коэффициент
 расширения
(10-6k-1)
Производства
 Процесса
Сплав алюминия 5 Н - 2.7 660 235 23.1 Плавильная плавильная пла
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ТАЗОБЕДРЕННЫЙ
Куб - 8.9 1084 400 16.5 Плавильная плавильная пла
MO-сплав 3N5 - 10.28 2623 139 4.8 ТАЗОБЕДРЕННЫЙ
Примечание - 8.6 2477 54 7.3 Плавильная плавильная пла
TA - 16.7 3017 57 6.3 Плавильная плавильная пла
Я - 2.33 1414 150 2.6 Синтеринг&спрей
TI 5 Н - 4.5 1670 22 8.6 Плавильная плавильная пла
W - 19.25 3422 174 4.5 ТАЗОБЕДРЕННЫЙ
АСО 3N5 98:2 5.6 1975 22 1.5 Спекание
ИТО 90:10 7.15 2000 15 2.0 Спекание
ГЗО 3N5 ПО ПРОСЬБЕ 7.15 - - - Спекание
IGZO ПО ПРОСЬБЕ - - - - Спекание
НбОкс - 4.6 1460 5 1.5 Синтеринг&спрей
TIOx - 4.23 1800 4 7.14 Синтеринг&спрей
 

Отправить ваш запрос напрямую данному поставщику

*От:
*Кому:
*Сообщение:

Введите от 20 до 4000 символов.

Это не то, что вы ищете? Опубликовать Спрос на Закупки Сейчас

Найти Похожие Товары по Категориям

Главная Страница Поставщика Товары Металлическая мишень 99.95% Высокочистая Rhodium sputtering Target Plate / RH Мишень из родиевого металла

Вам Наверное Нравятся

Связаться с Поставщиком

Золотое Членство с 2023

Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями

Производитель/Завод
Основные Товары
Sputtering Target
Количество Работников
6