• 3n5 Высокочистый хромиевый вращающийся пыхитель цель
  • 3n5 Высокочистый хромиевый вращающийся пыхитель цель
  • 3n5 Высокочистый хромиевый вращающийся пыхитель цель
  • 3n5 Высокочистый хромиевый вращающийся пыхитель цель
  • 3n5 Высокочистый хромиевый вращающийся пыхитель цель
  • 3n5 Высокочистый хромиевый вращающийся пыхитель цель

3n5 Высокочистый хромиевый вращающийся пыхитель цель

Приложение: Промышленный
формулы: хром
классификация: Metal Traget
стандарт уклона: промышленный класс
сертификация: iso
форма: Rotary,Flat,Round

Связаться с Поставщиком

Производитель/Завод
Золотое Членство с 2023

Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями

Guangdong, Китай
, чтобы увидеть все проверенные метки силы (14)

Основная Информация.

Модель №.
CYT-Cr
Транспортная Упаковка
Wooden Box
Характеристики
Customized Size
Торговая Марка
CANYUAN
Происхождение
Китай
Производственная Мощность
1000PCS

Описание Товара


 
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering TargetХромомишень — это материал, изготовенный из хрома (Cr), который может быть осажден на поверхность подложки для  изменения свойств поверхности подложки.
  Спецификация хрома
Приложение Материалы для поливинилфторида
Материалов Хром
Чистота 3N5
Размер индивидуальный
Толщина индивидуальный
Форма Мишень для разбрасывки хрома роторного ротора, Тип кольца, Тип листа, Тип плата и Тип трубки
Плотность 7,19 г/см3
Температура плавления 1907°C.
Метод производства ТАЗОБЕДРЕННЫЙ

Наше преимущество
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target


Процесса
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target

Упаковочный рисунок
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target


Применение:
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target
3n5 High Purity Chromium Rotating Sputtering Target

Связывание продукта
Материалов Чистота
(N)
Компонентов
(вес, %)
Плотность Плавление
 Точка
Тепловая
Проводимость
(WM-1K-1)
Коэффициент
 расширения
(10-6k-1)
Производства
 Процесса
Ал 3 Н - 2.7 660 235 23.1 Плавильная плавильная пла
CR 3N5 - 7.22 1907 94 4.9 ТАЗОБЕДРЕННЫЙ, плавильный
Куб - 8.9 1084 400 16.5 Плавильная плавильная пла
Нет 3N5 - 4.5 1453 90 13 Плавильная плавильная пла
TI 3 Н - 4.5 1668 15.2 9.4 Плавильная плавильная пла
ZR 3 Н - 6.49 1852 0.227 - Плавильная плавильная пла
Я - 2.33 1414 150 2.6 Синтеринг&спрей
АГ - 10.49 961.93 429 19 Плавильная плавильная пла
C - 2.23 3850±50 151 - ТАЗОБЕДРЕННЫЙ
Боевые 3N5 ПО ПРОСЬБЕ - - - - Плавильная плавильная пла
Инн ПО ПРОСЬБЕ - - - - Литье
CrSi ПО ПРОСЬБЕ - - - - Распыление
CRW ПО ПРОСЬБЕ 16.7 3017 57 6.3 ТАЗОБЕДРЕННЫЙ
NiCr 3 Н ПО ПРОСЬБЕ - - - - Плавильная плавильная пла
НИВЛ 3 Н 97:3 - - - - Плавильная плавильная пла
ТУАЛЕТ 3 Н - 15.77 2870 110 5.5 Синтеринг&спрей
НбОкс - 4.6 1460 5 1.5 Синтеринг&спрей

Отправить ваш запрос напрямую данному поставщику

*От:
*Кому:
*Сообщение:

Введите от 20 до 4000 символов.

Это не то, что вы ищете? Опубликовать Спрос на Закупки Сейчас

Вам Наверное Нравятся

Связаться с Поставщиком

Золотое Членство с 2023

Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями

Производитель/Завод
Основные Товары
Sputtering Target
Количество Работников
6