Производственный этап устройства на основе поверхностных акустических волн, машина для литографии

• Индивидуализация: Доступный
• Послепродажное обслуживание: обслуживание на заводе-изготовителе
• Гарантия: 1 лет
• Модель №.: LSLM-500
• размер пластины: 4 дюймов, 6 дюймов, 8 inches,12 дюймов
• источник света экспозиции: с уф-излучением
• резолюции: 0.5μm,0.4μm,0.3μm(developed в последовательности)
• точность выравнивания: 0.15μm
• коэффициент масштабирования: 1:5
• метод экспозиции: шагово-сканирующая проекция
• Транспортная Упаковка: деревянный ящик
• Торговая Марка: резон
• Происхождение: Китай
• Код ТН ВЭД: 9031809090

Описание Товара

 Характеристики продукта    
    Высокая точность;
   Настольный ПК, небольшой    размер, встроенный компьютер
 Настраиваемое оборудование   и   программное обеспечение  для  удовлетворения   потребностей отрасли;  
Эластичность  подходит для  различных оснований  и форм;

 Введение в продукт
   Литографика LSLM-500 STEP   -   это устройство , используемое  для  создания  интегральных  схем  (ics), которые могут образовывать миллионы  микроскопических компонентов   контура   на     поверхности   крошечного кремния   
полупроводниковых пластин,   важной частью     сложного процесса.
Основное применение:для      уменьшения   масштаба можно использовать литографию Step  шаблона  маски   на    поверхности подложки    Широко     используется  в   разработке  и  производстве  малых   и   средних интегральных      схем,  полупроводниковых компонентов   и   поверхности
шаблон маски caoin(u)ss(t)ipec(c w)aifivca(e)tdio(e)n(v)s(i):(c)e(.)     можно  уменьшить  в  5  раза  в    той же пропорции  для
Экспозиция;Минимальная ширина линии :500 нм;может   сотрудничать с     различными     моделями         положительного и отрицательного сопротивления света.
      Материалы для разбрызгиванияМеталл      , алюминий, медь, рм, Co, Fe, Ni, Pt, AG, Ti, Ta, сплав      NiFe, cofe, CoFeB,
NiMn, FeMn, TbFeCo, Oxides      MgO и т. д.
Применение:малые   и   средние интегральные       схемы;полупроводниковые    компоненты;  Разработка  и  производство      поверхностных акустических волновых устройств;
Параметр спецификации    

 Проект

	содержание
Размер стружки	Четыре дюйма, шесть  дюймов, восемь  дюймов, двенадцать  дюймов
Источник света	УФ-СВЕТОДИОД
Используемая длина волны источника света	365  нм
Разрешение проблем	последовательно были разработаны 500 нм, 400 нм и 300  нм
Точность фокусировки	150  нм
Масштабный множитель	1:5
Режим экспозиции	Проекция шага
Однородность размера элемента  (CDU)	±10%
Размеры	170  см*130  см*180  см.