After-sales Service: | 3 years |
---|---|
Magnification: | 500-1000X |
Type: | Metallographic |
Number of Cylinder: | ≥Three |
Mobility: | Desktop |
Stereoscopic Effect: | Without Stereoscopic Effect |
Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями
Затемнение (Wafer) Затемнение позволяет наблюдать рассеянный или дифрагированный свет образца. Все, что не плоское, отражает этот свет, а все, что плоское, кажется темным, поэтому недостатки четко выделяются. Пользователь может определить наличие даже минутной царапины или дефекта до уровня 8 нм, что меньше предела разрешающей мощности оптического микроскопа. Затемнение идеально подходит для обнаружения мельчайших царапин или дефектов на образце и анализа образцов зеркальных поверхностей, включая пластины. |
Дифференциальная интерференция Контрастность (проводящие частицы) DIC — это микроскопическая методика наблюдения, при которой разница высот образца, не обнаруживаемого с помощью светлого поля, становится рельефным или трехмерным изображением с улучшенной контрастностью. В этом методе используется поляризованный свет, который можно настроить с помощью трех специально разработанных призм. Он идеально подходит для исследования образцов с очень минутными перепады высоты, включая металлургические структуры, минералы, магнитные головки, жесткие диски и полированные поверхности пластин. |
Наблюдение за передаваемым светом (ЖК-дисплей) Для прозрачных образцов, таких как ЖК-дисплеи, пластмассы и стеклянные материалы, можно использовать различные конденсаторы для наблюдения за передаваемым светом. Исследование образцов в передаваемой светлее и поляризованном свете можно выполнить в одной удобной системе. |
Поляризованный свет (асбест) Этот метод микроскопического наблюдения использует поляризованный свет, генерируемый набором фильтров (анализатором и поляризатором). Характеристики образца непосредственно влияют на интенсивность света, отраженного в системе. Подходит для металлургических структур (т.е., роста графитового на железе для высокомолекулярного литья), минералов, ЖК и полупроводниковых материалов. |
Пункт | Технические характеристики | BS-6026RF | BS-6026TRF | |
Оптическая система | Оптическая система NIS45 с бесконечной цветокоррекцией (длина трубки: 200 мм) | * | * | |
Смотровая головка | ERGO Наклон. Транокулярная головка, регулируемая, наклонная на 0–35°, межпистолное расстояние 47мм–78мм; коэффициент расщепления окуляр:тринокулярный=100:0 или 20:80 или 0:100 | ○ | ○ | |
Транокулярная голова Seidentopf, наклонная под углом 30°, межпистолное расстояние: 47–78 мм; коэффициент расщепления окуляр:тринокулярный=100:0 или 20:80 или 0:100 | * | * | ||
Бинокулярная голова Seidentopf, наклонная на 30°, межпистолное расстояние: 47—78 мм | ○ | ○ | ||
Окуляр | Сверхширокая наглазник для плана поля SW10X/25 мм, регулируемый диоптрий | * | * | |
Сверхширокий наглазник SW10X/22mm, регулируемый диоптрий | ○ | ○ | ||
Насадка для сверхширокой полевой схемы EW12.5X/16 мм, с диоптрией | ○ | ○ | ||
Широкоугольный наглазник WF15X/16 мм, регулируемый диоптрий | ○ | ○ | ||
Широкоугольный наглазник WF20X/12mm, регулируемый диоптрий | ○ | ○ | ||
Цели | План бесконечной LWD NIS45, полуAPO цель (BF и DF) | 5X/NA=0.15, WD=20 ММ | * | * |
10X/NA=0.3, WD=11 ММ | * | * | ||
20X/NA=0.45, WD=3,0 ММ | * | * | ||
NIS45 Infinite LWD Plan APO Objective (BF и DF) | 50X/NA=0.8, WD=1,0 ММ | * | * | |
100X/NA=0.9, WD=1,0 ММ | * | * | ||
План бесконечной LWD NIS60, полуAPO, цель (BF) | 5X/NA=0.15, WD=20 ММ | ○ | ○ | |
10X/NA=0.3, WD=11 ММ | ○ | ○ | ||
20X/NA=0.45, WD=3,0 ММ | ○ | ○ | ||
NIS60 Infinite LWD Plan APO Objective (BF) (цель APO для бесконечного плана каротажа | 50X/NA=0.8, WD=1,0 ММ | ○ | ○ | |
100X/NA=0.9, WD=1,0 ММ | ○ | ○ | ||
Носовая накладка | Задний моторизованный сексуальный носовой окуляр (с слотом DIC) | * | * | |
Конденсатор | КОНДЕНСАТОР LWD N.A.C.65 | ○ | * | |
Передаваемая подсветка | Лампа S-LED 3 Вт, предварительная установка по центру, регулировка интенсивности | ○ | * | |
Отраженная подсветка | Отраженный свет 5 Вт светодиод, подсветка Koehler, с 6-позитной револьверной головкой | * | * | |
Модуль BF1 для работы в условиях яркого поля | ○ | ○ | ||
Модуль BF2 для работы в условиях яркого поля | * | * | ||
Модуль df для работы в темном поле | * | * | ||
Встроенный фильтр ND6, ND25 и фильтр коррекции цвета | ○ | ○ | ||
Управление с помощью электропривода | Панель управления носовыми насадками с кнопками. 2 наиболее часто используемых целей можно установить и переключить нажатием зеленой кнопки. После изменения цели интенсивность света будет автоматически отрегулирована | * | * | |
Фокусировка | Моторизованный механизм автоматической фокусировки с низкой рукой, независимое управление левым и правым колесами, трехскоростная регулировка скорости, диапазон фокусировки 30 мм, точность позиционирования при повторении: 0.1μm, механизм эвакуации и восстановления с помощью электропривода | * | * | |
Макс. Высота образца | 76 мм | * | ||
56 мм | * | |||
Этап | Высокоточная моторизованная двухслойная механическая ступень X-Y, размер 275 X 239 X 44.5 мм; ход: Ось x, 125 мм; ось Y, 75 мм. Точность позиционирования при повторном позиционировании ±1.5μm, максимальная скорость 20 мм/с. | * | * | |
Комплект DIC | Комплект DIC для отраженного освещения (может использоваться для задач 10X, 20X, 50X, 100X) | ○ | ○ | |
Поляризационный комплект | Поляризатор для отраженного освещения | ○ | ○ | |
Анализатор отраженного освещения, поворот на 0-360° | ○ | ○ | ||
Поляризатор для передаваемого освещения | ○ | |||
Анализатор для передаваемой подсветки | ○ | |||
Другие аксессуары | Адаптер с креплением C 0,5 шт. | ○ | ○ | |
1 АДАПТЕР C-mount | ○ | ○ | ||
Пылезащитная крышка | * | * | ||
Кабель питания | * | * | ||
Калибровочный слайд 0,01 мм (микрометр-сценический) | ○ | ○ | ||
Образец Presser | ○ | ○ |
Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями