Цинк алюминий целевой

Цинк алюминий целевой

Описание Товара

Информация о Компании

Описание Товара

CO. материальной технологии Yuan клыка Пекин, Ltd. будет sputtering изготовлением цели в Пекин Кита. Мы производим серии целей sputtering индукцией вакуума плавя, горяче отжимая и холодно изостатическо отжимая. Также смогите поставить сервировку заднего днища и скрепления. В прошлых летах мы устанавливали хорошее отношение дела с много фабрик покрытия, торговой компанией и некоторой известной лабораторией в мире. Наша важная продукция вклюает: Metal цели sputtering, цели sputtering сплава, керамические цели sputtering. Очищенностью наших целей sputtering будет 2N к 7N. О спецификации мы smogли обрабатывать согласно вашим специфически требованиям.

Керамическая цель sputtering: Al2O3 цель, Sb2O3 цель, ATO пристреливает, BaTiO3 цель, Bi2O3 цель, CEO2 цель, цель CuO, Cr2O3 цель, Dy2O3 цель, Er2O3 цель, EU2O3 цель, Gd2O3 цель, Ga2O3 цель, HfO2 цель, Ho2O3 цель, In2O3 цель, цель ITO, цель Fe2O, Fe3O4 цель, PbTiO3 цель, PbZrO3 цель, LiNbO3 цель, Lu2O3 цель, цель MGO, MoO3 цель, ND2O3 цель, цель Pr6O11, цель 2, Pr2O3 цель Pr (TiO2), Sm2O3 цель, SiO2 цель, цель SiO, SrTiO3 цель, SrZrO3 цель, Ta2O5 цель, Tb4O7 цель, TeO2 цель, TiO2 цель, цель TiO, Ti3O5 цель, Ti2O3 цель, цель SnO, WO3 цель, V2O5 цель, Yb2O3 цель, Y2O3 цель, цель ZnO, ZnO: Цель Al, ZrO2 цель, Bi2Se3 цель, цель CdSe, In2Se3 цель, цель AlN, цель BN, Si3N4 цель, цель олова, цель B4C, цель SiC, цель TiC, цель WC, цель CdS, цель ZnS.

Цель sputtering металла: Цель бора, цель углерода, магний цели, алюминиевая цель, цель кремния, цель scandium, titanium цель, цель ванадия, цель хромия, цели марганца, цель кобальта, цель никеля, медная цель, цель цинка, цель галлия, цель Ge, цель селена, цель иттрия, цель циркония, цель ниобия, цель молибдена, цель рутения, цель родия, цель палладиума, серебряная цель, цель кадмия, цель индия, цель олова, цель сурьмы, цель теллурия, цель гафния, цель тантала, цель вольфрама, цель рения, цель иридия, цель платины, цель золота, цель руководства, цель висмута, цель церия, Цель Pr, цель terbium, цель holmium, цель erbium, цель thulium, цель Lu.

Цель sputtering сплава: Цель цинка алюминиевая, алюминиевая медная цель, алюминиевая серебряная цель, цель бора утюга кобальта, медная цель никеля, цель февраля целей утюга и углерода, цель марганца, цель марганца иридия, цель олова индия, цель никеля алюминиевая, цель хромия никеля, материалы цели утюга никеля, цель никеля titanium, серебряная медная цель, серебряная цель олова, titanium алюминиевая цель, цель никел-титана, titanium материал цели хромия, цель рения вольфрама, titanium цели цели вольфрама, цели циркония titanium, циркония и иттрия, медная цель селена галлия индия, цель медного индия, медная цель галлия индия, сурьма индия цели, цели теллурия германего, германий цель теллурия сурьмы

Добро пожаловать, котор нужно связаться мы если вы имеете любую потребность.
Адрес: No. 28 Shangdi Road Haidian District, Beijing, China
Тип Бизнеса: Производитель/Завод, Торговая Компания
Диапазон Бизнеса: Металлургия, Минерал и Энергия
Сертификация Системы Менеджмента: ISO 9000
Введение Компании: Bei Цзин Фан Юань Matrial Technology Co., Ltd. является отличается неравномерностью target производителем в Bei Цзин Китая. Наш завод является estabished в 2010. Мы нано-материалов оборудования, более крупных вакуума при нажатии кнопки с возможностью горячей замены оборудования, высокой температуры спекания оборудование и обрабатывающего оборудования. В настоящее время мы специализируемся в подготовке большого размера керамические отличается неравномерностью и сплава отличается неравномерностью.

Наш важный продукт: вращающийся фильтродержатель AZO target,
Планар: AZO target, MOS2 taret Ta2O5, Nb2O5, TiO2, HfO2, ZnO target, ЦНС, компакт-диски, WC +Co, WTi target, Сиал",
ТИАЛ target, CIGS target, основе CdTe target, GeSbTe target, Ge.
Размер:
"за круглым столом: Dia25.4 - -304.8мм; Thinkness: 2---15 мм
прямоугольный объект: <300*190*15мм
вращающийся фильтродержатель: <Dia200*2500mm
Purity: 99.9---99.999%
Density: >Теоретические материалы плотностью 98%
также у нас есть рабочий стол для отличается неравномерностью target bongding.
На верстаке: 2000*700мм.

В настоящее время мы искренне стремится к бесплатно партнеров и затем мы сделаем все возможное для поддержки наших партнеров по качеству и цене. Мы твердо убеждены в том, что Вы будете довольны нашей продукции и услуг. Приветствуя иностранные гости могут посетить наш завод.

Мы надеемся на то мы могли бы установить хорошие деловые отношения в будущем!
Once receive your question, the supplier will answer you as soon as possible.

Отправить ваш запрос напрямую данному поставщику

Опубликовать Спрос на Закупки Сейчас

Дата Последнего Входа: Sep 16, 2013

Тип Бизнеса: Производитель/Завод, Торговая Компания

Основные Товары: Sputteringtarget, металл, сплав, керамические, Nb2O5, Wc +Co Целевой

Связанные Категории