Главнаяarrow-rightИндекс Китайских Заводовarrow-rightоксидные мишени для распыления заводarrow-rightсписок поставщиков
Фильтровать
Категории
Больше
Сертификация менеджмента
Больше
Возможности НИОКР
Годовой Доход
Больше
Количество сотрудников
Провинция &Регион
Больше
О оксидные мишени для распыления
  • Технологические инновации
  • Надежные цепочки поставок
  • Значительные производственные возможности

оксидные мишени для распыления70+ фабрики проверены

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Отправить Запрос
In2O3+Cu Керамический мишень оксид индия+медный керамический мишень для ЛКД/сенсорной панели

In2O3+Cu Керамический мишень оксид индия+медный керамический мишень для ЛКД/сенсорной панели

40,00 $
1 кг(MOQ)
In2O3 Целевой керамический мишень оксида индия для ЖК/сенсорной панели

In2O3 Целевой керамический мишень оксида индия для ЖК/сенсорной панели

650,00 $
1 кг(MOQ)
Мишень для распыления из высокопурного оксида меди для полупроводников

Мишень для распыления из высокопурного оксида меди для полупроводников

10,00 $
1 кг(MOQ)
Цель ITO Высокая Density>99.8% Низкая плотность: 60% Целевой индий-оловянный оксид для распыления для ЖК/СВЕТОДИОДНЫХ сенсорных панелей

Цель ITO Высокая Density>99.8% Низкая плотность: 60% Целевой индий-оловянный оксид для распыления для ЖК/СВЕТОДИОДНЫХ сенсорных панелей

340,00 $
1 кг(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Отправить Запрос
99.99 Поставщик мишеней из чистого оксида индия и олова для напыления PVD

99.99 Поставщик мишеней из чистого оксида индия и олова для напыления PVD

50,00-1 500,00 $
1 шт.(MOQ)
99.99 Чистый оксид иттрия Y2o3 Поставщик мишеней для распыления для ПВД покрытия

99.99 Чистый оксид иттрия Y2o3 Поставщик мишеней для распыления для ПВД покрытия

100,00-1 000,00 $
1 шт.(MOQ)
99.99% Чистые Hfo2 целевые керамические материалы оксида гафния для магнетронного распыления

99.99% Чистые Hfo2 целевые керамические материалы оксида гафния для магнетронного распыления

55,00-85,00 $
1 шт.(MOQ)
Liv2o5 Керамический мишень для распыления литий-ванадиевого оксида

Liv2o5 Керамический мишень для распыления литий-ванадиевого оксида

200,00-1 000,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Отправить Запрос
Cuo-In2o3 Керамические мишени оксид меди - оксид индия для распыления

Cuo-In2o3 Керамические мишени оксид меди - оксид индия для распыления

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
Высокая чистота 99.99% мишень ИТO (оксид индия и олова) для напыления методом PVD

Высокая чистота 99.99% мишень ИТO (оксид индия и олова) для напыления методом PVD

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
Zro2-Sio2 Керамическая мишень циркония - оксид кремния диоксид циркония силикат циркония мишени для распыления

Zro2-Sio2 Керамическая мишень циркония - оксид кремния диоксид циркония силикат циркония мишени для распыления

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
99.99% Чистая керамическая мишень из оксида свинца для распыления

99.99% Чистая керамическая мишень из оксида свинца для распыления

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
Отправить Запрос
Премиум мишень для распыления из оксида иттрия, бария и меди для электроники

Премиум мишень для распыления из оксида иттрия, бария и меди для электроники

190,00-199,00 $
1 шт.(MOQ)
Целевой сплав оксида иттрия высокой чистоты для покрытий

Целевой сплав оксида иттрия высокой чистоты для покрытий

115,00-130,00 $
1 шт.(MOQ)
Целевой сплав оксида иттербия высокой чистоты для электроники

Целевой сплав оксида иттербия высокой чистоты для электроники

190,00-199,00 $
1 шт.(MOQ)
Высококачественные редкоземельные металлические мишени для распыления для глобального распределения

Высококачественные редкоземельные металлические мишени для распыления для глобального распределения

150,00-350,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Отправить Запрос
Целевой индий-оловянный оксид ITO для вакуумного распыления PVD целевой мишени

Целевой индий-оловянный оксид ITO для вакуумного распыления PVD целевой мишени

4 600,00 $
1 шт.(MOQ)
Целевой мишень оксида иттрия Y2o3

Целевой мишень оксида иттрия Y2o3

6 500,00 $
1 шт.(MOQ)
Магний оксид мишень для распыления MGO2 мишень

Магний оксид мишень для распыления MGO2 мишень

6 500,00 $
1 шт.(MOQ)
Целевой мишень оксида алюминия Al2O3

Целевой мишень оксида алюминия Al2O3

6 000,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 г.
·Производитель/Завод & Торговая Компания
Отправить Запрос
Двухцелевой магнетронное распыление с использованием постоянного и переменного тока для металлических и оксидных тонких пленок

Двухцелевой магнетронное распыление с использованием постоянного и переменного тока для металлических и оксидных тонких пленок

21 000,00-26 000,00 $
1 шт.(MOQ)
Кастомизированный магнетронный распыляющий коатер с 3 мишенями для подготовки металла

Кастомизированный магнетронный распыляющий коатер с 3 мишенями для подготовки металла

28 500,00-40 100,00 $
1 шт.(MOQ)
Высокая стоимость производительности три цели магнетронного распылительного покрытия (500W DC&500W RF)

Высокая стоимость производительности три цели магнетронного распылительного покрытия (500W DC&500W RF)

28 500,00-40 100,00 $
1 шт.(MOQ)
Машина для напыления порошковым магнетронным распылением для идеального coating оборудования

Машина для напыления порошковым магнетронным распылением для идеального coating оборудования

28 500,00-40 100,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

Отправить Запрос
99.99% Целевой мишень оксида галлия Плоская мишень Ga2o3 Мишень

99.99% Целевой мишень оксида галлия Плоская мишень Ga2o3 Мишень

300,00 $
1 шт.(MOQ)
Оборудование для плазменного напыления покрытия, предотвращающего прилипание, износостойкое, из силикона, алюминия, оксида алюминия, циркония

Оборудование для плазменного напыления покрытия, предотвращающего прилипание, износостойкое, из силикона, алюминия, оксида алюминия, циркония

35 000,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 г.
·Производитель/Завод & Торговая Компания
Отправить Запрос
Спутниковая мишень титан алюминий медь хром никель магнетронная трубка ротационное ПВД покрытие

Спутниковая мишень титан алюминий медь хром никель магнетронная трубка ротационное ПВД покрытие

0,50-10,00 $
10 Куски(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

Отправить Запрос
Оксид олова (SnO2) Материал для испарения Пеллет 1-10mm Чистота 99.99% Целевой мишень для распыления

Оксид олова (SnO2) Материал для испарения Пеллет 1-10mm Чистота 99.99% Целевой мишень для распыления

200,00 $
1 кг(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 г.
·Торговая Компания
Отправить Запрос
Фабричная цена продажа высококачественной ITO ротационной мишени для распыления 4n In2o3 и Sno2

Фабричная цена продажа высококачественной ITO ротационной мишени для распыления 4n In2o3 и Sno2

Цена Договорная
1 Piece(MOQ)
Металлический мишень самария, стержень гранулированный, CAS номер 7440-19-9 Sm 3n 4n

Металлический мишень самария, стержень гранулированный, CAS номер 7440-19-9 Sm 3n 4n

Цена Договорная
1 Piece(MOQ)
Высококачественная мишень для распыления ниобия с номером CAS 7440-03-1

Высококачественная мишень для распыления ниобия с номером CAS 7440-03-1

Цена Договорная
1 Piece(MOQ)
Фабричная цена продажи высокоп purity ITO мишени для Rpd 4n

Фабричная цена продажи высокоп purity ITO мишени для Rpd 4n

Цена Договорная
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

Отправить Запрос
Мишени для выдутия натрия оксида олова ITO завода Guangdong

Мишени для выдутия натрия оксида олова ITO завода Guangdong

10,00-15,00 $
1 кг(MOQ)
Заводская медная пластина из ПВХ покрытие Multi Arc sputtering Target Copper Ротационный полупроводник

Заводская медная пластина из ПВХ покрытие Multi Arc sputtering Target Copper Ротационный полупроводник

10,00-15,00 $
1 кг(MOQ)
Гуандун Фабрика Оптовая Чистая 99.95% Медная листовая пластина для разбрызгивание цель Производство

Гуандун Фабрика Оптовая Чистая 99.95% Медная листовая пластина для разбрызгивание цель Производство

10,00-15,00 $
1 кг(MOQ)
Завод. Медный колющий поворотный диск для металлопокрытого проводника

Завод. Медный колющий поворотный диск для металлопокрытого проводника

10,00-15,00 $
1 кг(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 г.
·Производитель/Завод
Отправить Запрос
Керамика, диэлектрик, оптика, оксид, твердая пленка, пленка ПТФЭ, радиочастотный двойной мишенный магнетронный распылитель

Керамика, диэлектрик, оптика, оксид, твердая пленка, пленка ПТФЭ, радиочастотный двойной мишенный магнетронный распылитель

26 500,00 $
1 шт.(MOQ)
500W ДК 300W РЧ Двойной Целевой Магнетронный Напылитель для Напыления Металлов и Оксидов

500W ДК 300W РЧ Двойной Целевой Магнетронный Напылитель для Напыления Металлов и Оксидов

31 000,00-32 500,00 $
1 set(MOQ)
4-Inch Магнетрон Целевой Одноцелевой DC Магнетронное Напыление Установки для Оксидной Пленки

4-Inch Магнетрон Целевой Одноцелевой DC Магнетронное Напыление Установки для Оксидной Пленки

32 000,00-34 000,00 $
1 set(MOQ)
Двухцелевой радиочастотный магнетронный распылительный вакуумный ПВД-аппарат для полимеров полупроводников

Двухцелевой радиочастотный магнетронный распылительный вакуумный ПВД-аппарат для полимеров полупроводников

26 500,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Отправить Запрос
Целевой материал ITO (оксид индиума), прозрачная проводящая пленка оксида индиума, мишень для разбрызгивения магнетрона, пользовательские спецификации

Целевой материал ITO (оксид индиума), прозрачная проводящая пленка оксида индиума, мишень для разбрызгивения магнетрона, пользовательские спецификации

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Целевой материал оксида цинка (AZO) высокой чистоты, оксид цинка (ZnO), допаленный оксидом алюминия (Al2O3), мишень оксида магнетрона, связывание опорной плиты.

Целевой материал оксида цинка (AZO) высокой чистоты, оксид цинка (ZnO), допаленный оксидом алюминия (Al2O3), мишень оксида магнетрона, связывание опорной плиты.

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Целевой материал оксида иттербия Yb2o3, Научно-исследовательский экспериментальный материал, покрытие для разбрызгивания, покрытие для испарения, полупроводник

Целевой материал оксида иттербия Yb2o3, Научно-исследовательский экспериментальный материал, покрытие для разбрызгивания, покрытие для испарения, полупроводник

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

Отправить Запрос
Сопротивление теплу, прочность и жесткость титановой круглой мишени

Сопротивление теплу, прочность и жесткость титановой круглой мишени

10,00 $
5 Куски(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

Отправить Запрос
Алюминиевые куски блоки металл алюминиевый мишень для распыления для лабораторных исследований

Алюминиевые куски блоки металл алюминиевый мишень для распыления для лабораторных исследований

2 960,00 $
1 Тонн.(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

Отправить Запрос
Ybco Yba2Cu3O7 Yttrium бария оксида меди отличается неравномерностью целевой

Ybco Yba2Cu3O7 Yttrium бария оксида меди отличается неравномерностью целевой

250,00-500,00 $
1 шт.(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 г.·5.0
·Торговая Компания
Отправить Запрос
Порошок мишени для распыления оксида магния CAS1309-48-4

Порошок мишени для распыления оксида магния CAS1309-48-4

550,00-1 500,00 $
10 Тонны(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 г.
·Торговая Компания
Отправить Запрос
Dia301.625mm Большая вольфрамовая мишень, 99.999% Мишень для распыления металла вольфрама

Dia301.625mm Большая вольфрамовая мишень, 99.999% Мишень для распыления металла вольфрама

2 800,00-3 000,00 $
1 pieces(MOQ)
99.99% Чистый вольфрамовый металлический материал 4n Целевой сплав вольфрама W

99.99% Чистый вольфрамовый металлический материал 4n Целевой сплав вольфрама W

200,00 $
1 шт.(MOQ)
99.99% Wti20 Мишень для распыления вольфрама титана

99.99% Wti20 Мишень для распыления вольфрама титана

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Прямые продажи с завода высокопурифицированного 99.95%Min металла тантала Ta для мишеней распыления для тонкопленочного покрытия

Прямые продажи с завода высокопурифицированного 99.95%Min металла тантала Ta для мишеней распыления для тонкопленочного покрытия

600,00-1 000,00 $
1 kilograms(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 г.·5.0
·Производитель/Завод & Торговая Компания
Отправить Запрос
Молибденовая мишень для вакуумного распыления покрытия

Молибденовая мишень для вакуумного распыления покрытия

45,00 $
1 kg(MOQ)
Высокопурный 99.95% вольфрамовый блок, пластина, лист

Высокопурный 99.95% вольфрамовый блок, пластина, лист

45,00 $
1 kg(MOQ)
Профессиональный производитель чистого молибденового круглого листа, молибденовый круглый лист

Профессиональный производитель чистого молибденового круглого листа, молибденовый круглый лист

30,00 $
1 kg(MOQ)
Китайский ведущий производитель листов из молибдена высокой чистоты круглой формы с супер качеством

Китайский ведущий производитель листов из молибдена высокой чистоты круглой формы с супер качеством

40,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Отправить Запрос
Цель для разбрызгивения феррооксида 4n для покрытия PVD

Цель для разбрызгивения феррооксида 4n для покрытия PVD

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Высокая степень чистоты сплава Target 99,99% 4n нро никель оксид для оптического Thin-Film покрытие PVD испарения

Высокая степень чистоты сплава Target 99,99% 4n нро никель оксид для оптического Thin-Film покрытие PVD испарения

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Галлия оксид отличается неравномерностью Target Ga2o3 чистотой 99,99% 4n

Галлия оксид отличается неравномерностью Target Ga2o3 чистотой 99,99% 4n

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Окиси циркония Ysz Yttrium(Zro2/Y2o3 99,99% отличается неравномерностью Target керамические целевой

Окиси циркония Ysz Yttrium(Zro2/Y2o3 99,99% отличается неравномерностью Target керамические целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Отправить Запрос
Вращающийся Tiox Target, главным образом для приложений с низким E стекло покрытие, магнетрон отличается неравномерностью, оксида титана целевой

Вращающийся Tiox Target, главным образом для приложений с низким E стекло покрытие, магнетрон отличается неравномерностью, оксида титана целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Связывание мишени для напыления оксида натрия мишени для напыления 99.99% 4n керамической мишени.

Связывание мишени для напыления оксида натрия мишени для напыления 99.99% 4n керамической мишени.

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
99.99% Ито цель 97: 3 95: 5 90: 10 Оксид натрия олова мишени для проводящей пленки

99.99% Ито цель 97: 3 95: 5 90: 10 Оксид натрия олова мишени для проводящей пленки

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Indium азота триоксид в2o3 порошок 99,99%, высокой степенью чистоты Indium триоксид вольфрама, в2o3 Indium азота порошок цена

Indium азота триоксид в2o3 порошок 99,99%, высокой степенью чистоты Indium триоксид вольфрама, в2o3 Indium азота порошок цена

Цена Договорная
50 кг(MOQ)

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Отправить Запрос
Двухцелевой PVD напылительный coating оборудование для проводящих многослойных пленок

Двухцелевой PVD напылительный coating оборудование для проводящих многослойных пленок

45 000,00 $
1 шт.(MOQ)
Универсальная система магнетронного распыления с высоким вакуумом с несколькими мишенями для осаждения многослойных соединений

Универсальная система магнетронного распыления с высоким вакуумом с несколькими мишенями для осаждения многослойных соединений

50 000,00 $
1 шт.(MOQ)
Бренд TMAXCN Высокопурные материалы для покрытия PVD Оксид вольфрама Wo3 Мишень для распыления

Бренд TMAXCN Высокопурные материалы для покрытия PVD Оксид вольфрама Wo3 Мишень для распыления

78,00-90,00 $
1 шт.(MOQ)
Лабораторный авто магнитронный распыляющий коатер для металлических, оксидных и полупроводниковых тонких пленок в СЭМ, энергетических материалах

Лабораторный авто магнитронный распыляющий коатер для металлических, оксидных и полупроводниковых тонких пленок в СЭМ, энергетических материалах

50 000,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Able Target Limited

Отправить Запрос
Отличается неравномерностью целевых показателей

Отличается неравномерностью целевых показателей

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Цели Sputtering Gdbacuox и цели Sputtering Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Цели Sputtering Gdbacuox и цели Sputtering Ybacuox, Gdba1.8cu3ox, Gdba1.9cu3ox, Yba2cu3o7, Y1ba2cu3o7, Ybacuox

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Отличается неравномерностью, Al2O3/, оксида алюминия Al2O3/ZnO/Azo алюминия окись цинка

Отличается неравномерностью, Al2O3/, оксида алюминия Al2O3/ZnO/Azo алюминия окись цинка

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Цель Sputtering редкой земли

Цель Sputtering редкой земли

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Отправить Запрос
С помощьюизмерьте Target, IR стекла с пленкой, сурьму Тин оксида целевого показателя

С помощьюизмерьте Target, IR стекла с пленкой, сурьму Тин оксида целевого показателя

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Ито, индикатор / OLED / TP ИТО Target, National Semiconductor Ито пробка

Ито, индикатор / OLED / TP ИТО Target, National Semiconductor Ито пробка

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Ито Планар отличается неравномерностью, ИТО стекла пленки, Tp/Tn/Stn/TFT ЖК-Ито Целевой

Ито Планар отличается неравномерностью, ИТО стекла пленки, Tp/Tn/Stn/TFT ЖК-Ито Целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Иво Target, солнечных батарей Иво Target, оксида Indium-Tungsten Целевой

Иво Target, солнечных батарей Иво Target, оксида Indium-Tungsten Целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Отправить Запрос
Ито настраиваемый размер 99,99% Indium Тин азота вращающихся ИТО керамические отличается неравномерностью целевой

Ито настраиваемый размер 99,99% Indium Тин азота вращающихся ИТО керамические отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
99,95 % Zro окиси циркония отличается неравномерностью Zro Target лист пластины Zro оксиды циркония Puttering Целевой

99,95 % Zro окиси циркония отличается неравномерностью Zro Target лист пластины Zro оксиды циркония Puttering Целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
99,9% оксида титана Tiox вращающийся Target отличается неравномерностью целевой PVD покрытие вакуума оксида титана Tiox отличается неравномерностью целевой

99,9% оксида титана Tiox вращающийся Target отличается неравномерностью целевой PVD покрытие вакуума оксида титана Tiox отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
99,95% Gzo Галлия Зин азота отличается неравномерностью Gzo Target лист пластины Gzo отличается неравномерностью целевой

99,95% Gzo Галлия Зин азота отличается неравномерностью Gzo Target лист пластины Gzo отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Отправить Запрос
Bi2O3 керамические отличается неравномерностью целевой

Bi2O3 керамические отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Azo отличается неравномерностью Target алюминия окись цинка целевой

Azo отличается неравномерностью Target алюминия окись цинка целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Цель In2o3 ITO: Sno2=90: цель Sputtering 10wt%/ITO плоскостная

Цель In2o3 ITO: Sno2=90: цель Sputtering 10wt%/ITO плоскостная

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Al2O3 керамические отличается неравномерностью целевой

Al2O3 керамические отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 г.
·Производитель/Завод & Торговая Компания
Отправить Запрос
Машина для покрытия с использованием катодов в крупносерийном производстве с несколькими мишенями для аргона

Машина для покрытия с использованием катодов в крупносерийном производстве с несколькими мишенями для аргона

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Высокодоходный прозрачный проводящий пленкообразователь с машиной для покрытия мишени ИТО в аргоновой среде

Высокодоходный прозрачный проводящий пленкообразователь с машиной для покрытия мишени ИТО в аргоновой среде

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Оборудование для нанесения нанопокрытий с высокой адгезионной прочностью, машина для нанесения ар покрытия

Оборудование для нанесения нанопокрытий с высокой адгезионной прочностью, машина для нанесения ар покрытия

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Высокоскоростная производственная машина для покрытия с быстрым временем цикла

Высокоскоростная производственная машина для покрытия с быстрым временем цикла

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Отправить Запрос
Алюминиевая цель Sputtering

Алюминиевая цель Sputtering

15,00 $
1 шт.(MOQ)
Отличается неравномерностью целевых показателей

Отличается неравномерностью целевых показателей

60,00 $
1 шт.(MOQ)
Керамическая цель Sputtering

Керамическая цель Sputtering

45,00 $
1 шт.(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

Отправить Запрос
Качественная вольфрамовая фольга Kefeng с толщиной от 0.001inches (0.025mm) до 0.08 дюймов (2 мм)

Качественная вольфрамовая фольга Kefeng с толщиной от 0.001inches (0.025mm) до 0.08 дюймов (2 мм)

50,00-500,00 $
10 кг(MOQ)
Молибденовый сплав Тзм в коммерческой термической обработке

Молибденовый сплав Тзм в коммерческой термической обработке

100,00-500,00 $
10 кг(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

Отправить Запрос
Спутерный мишень

Спутерный мишень

0,10-100,00 $
1 000 Куски(MOQ)
1/4
13
О Нас Заявление Пользовательское соглашение Политика конфиденциальности Связаться с Made-in-China.com Быстрый Поиск Продуктов Информация
Языковой Вариант: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Все права защищены.
Focus не несет ответственности за разницу между английской версией и другими языковыми версиями. Если есть конфликт, английская версия имеет преимущественную силу. Использование нашего сайта означает признание и принятие наших Терминов и Условий.