Главнаяarrow-rightИндекс Китайских Заводовarrow-rightазотные мишени для распыления заводarrow-rightсписок поставщиков
Фильтровать
Категории
Больше
Сертификация менеджмента
Больше
Возможности НИОКР
Годовой Доход
Количество сотрудников
Провинция &Регион
Больше
О азотные мишени для распыления
  • Технологические инновации
  • Надежные цепочки поставок
  • Значительные производственные возможности

азотные мишени для распыления20+ фабрики проверены

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Отправить Запрос
99.95% Целевой мишень из алюминия, цинка и оксида цинка для ПВД покрытия

99.95% Целевой мишень из алюминия, цинка и оксида цинка для ПВД покрытия

200,00-400,00 $
1 шт.(MOQ)
99.5% Азот ZnO/Al2O3 98/2wt% Мишень для распыления для тонкопленочного покрытия

99.5% Азот ZnO/Al2O3 98/2wt% Мишень для распыления для тонкопленочного покрытия

50,00-300,00 $
1 pieces(MOQ)
99.99% Циркониевые мишени ZnO/Al2O3 Мишени для распыления оксида цинка и оксида алюминия для покрытия

99.99% Циркониевые мишени ZnO/Al2O3 Мишени для распыления оксида цинка и оксида алюминия для покрытия

110,00-120,00 $
1 шт.(MOQ)
Высококачественная мишень Azo ZnO/Al ZnO/Al2O3 для распыления по конкурентоспособным ценам

Высококачественная мишень Azo ZnO/Al ZnO/Al2O3 для распыления по конкурентоспособным ценам

50,00-299,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Отправить Запрос
99.95% Целевые мишени из оксида цинка с алюминиевым допированием для напыления методом магнетронного распыления для ПВД покрытия

99.95% Целевые мишени из оксида цинка с алюминиевым допированием для напыления методом магнетронного распыления для ПВД покрытия

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
99.99% Zrsi2 Керамические мишени циркониевый силицид мишень для распыления

99.99% Zrsi2 Керамические мишени циркониевый силицид мишень для распыления

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
Высокая чистота 99.99% мишень ИТO (оксид индия и олова) для напыления методом PVD

Высокая чистота 99.99% мишень ИТO (оксид индия и олова) для напыления методом PVD

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
99.99% Чистая магний Mg мишень для распыления для покрытия

99.99% Чистая магний Mg мишень для распыления для покрытия

17,00-55,00 $
1 кг(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Отправить Запрос
Spray Target Nbox Nb2O5 sputter Target поворотный High Purity 99.95% Hip CIP Target Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr azo ITO

Spray Target Nbox Nb2O5 sputter Target поворотный High Purity 99.95% Hip CIP Target Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr azo ITO

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
PVD Target алюминия Al цилиндрических поворотного Sputter Target 99,999 % 2n-5n доступен

PVD Target алюминия Al цилиндрических поворотного Sputter Target 99,999 % 2n-5n доступен

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Вращающийся Indium целевого показателя в отличается неравномерностью целевой

Вращающийся Indium целевого показателя в отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Uvtm целевых показателей на выставке отличается неравномерностью покрытие Вики13249153016

Uvtm целевых показателей на выставке отличается неравномерностью покрытие Вики13249153016

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

Отправить Запрос
4n Целевой материал ZnO: Al2O3 Целевые материалы для ротационного распыления

4n Целевой материал ZnO: Al2O3 Целевые материалы для ротационного распыления

200,00-10 000,00 $
1 шт.(MOQ)
4n Nbo2 Целевые ниобиевые оксидные вращающиеся мишени для вакуумного покрытия

4n Nbo2 Целевые ниобиевые оксидные вращающиеся мишени для вакуумного покрытия

200,00-10 000,00 $
1 шт.(MOQ)
Сравнительное исследование 4n Азо против других материалов для приложений ротационного распыления

Сравнительное исследование 4n Азо против других материалов для приложений ротационного распыления

200,00-10 000,00 $
1 шт.(MOQ)
Инновации в 4n ZnO: Al2O3 технологии ротационных мишеней для передового производства полупроводников

Инновации в 4n ZnO: Al2O3 технологии ротационных мишеней для передового производства полупроводников

200,00-10 000,00 $
1 шт.(MOQ)

ATM Material Co., Ltd.

Отправить Запрос
Цель с высоким качеством

Цель с высоким качеством

0,10-100,00 $
1 000 Куски(MOQ)
В Таргет

В Таргет

100,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Отправить Запрос
Azo отличается неравномерностью Target алюминия окись цинка целевой

Azo отличается неравномерностью Target алюминия окись цинка целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Цилиндрическая Azo целевых показателей

Цилиндрическая Azo целевых показателей

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Able Target Limited

Отправить Запрос
Отличается неравномерностью целевых показателей

Отличается неравномерностью целевых показателей

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Отличается неравномерностью, Al2O3/, оксида алюминия Al2O3/ZnO/Azo алюминия окись цинка

Отличается неравномерностью, Al2O3/, оксида алюминия Al2O3/ZnO/Azo алюминия окись цинка

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Отправить Запрос
Azo отличается неравномерностью Target алюминия окись цинка для испарения растворителя Thin-Film покрытие оптического дисковода

Azo отличается неравномерностью Target алюминия окись цинка для испарения растворителя Thin-Film покрытие оптического дисковода

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Отправить Запрос
Цель Sputtering

Цель Sputtering

18,00-20,00 $
1 шт.(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd

Отправить Запрос
Высокая степень чистоты отличается неравномерностью Target ---- Azo Целевой

Высокая степень чистоты отличается неравномерностью Target ---- Azo Целевой

50,00 $
1 шт.(MOQ)

Ningbo Sunlit Electronic Material Co. Ltd

Отправить Запрос
Глинозема Doped цинка целевой

Глинозема Doped цинка целевой

200,00-300,00 $
2 Куски(MOQ)

Yochane Vacuum Technology Limited

Отправить Запрос
Азо цель покрытия Sputtering

Азо цель покрытия Sputtering

30,00 $
1 шт.(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Отправить Запрос
Целевой материал оксида цинка (AZO) высокой чистоты, оксид цинка (ZnO), допаленный оксидом алюминия (Al2O3), мишень оксида магнетрона, связывание опорной плиты.

Целевой материал оксида цинка (AZO) высокой чистоты, оксид цинка (ZnO), допаленный оксидом алюминия (Al2O3), мишень оксида магнетрона, связывание опорной плиты.

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 г.
·Производитель/Завод & Торговая Компания
Отправить Запрос
Система инлайн-напыления с использованием магнетронного распыления Hcvac ITO Azo

Система инлайн-напыления с использованием магнетронного распыления Hcvac ITO Azo

150 000,00-500 000,00 $
1 Комплект(MOQ)
Линия для нанесения покрытия методом магнетронного распыления PVD для солнечных элементов, стекло Azo/ITO

Линия для нанесения покрытия методом магнетронного распыления PVD для солнечных элементов, стекло Azo/ITO

150 000,00 $
1 Комплект(MOQ)
Система инлайн-напыления для проводящего покрытия из ИТО, Азо, Цинк Оксид

Система инлайн-напыления для проводящего покрытия из ИТО, Азо, Цинк Оксид

150 000,00 $
1 Комплект(MOQ)
Система вакуумного напыления с магнетронным распылением для стекла Hcvac ITO, Azo, Low-E стекло

Система вакуумного напыления с магнетронным распылением для стекла Hcvac ITO, Azo, Low-E стекло

150 000,00 $
1 Комплект(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Отправить Запрос
Лабораторная настольная магнитронная распыляющая установка для изготовления тонких пленок

Лабораторная настольная магнитронная распыляющая установка для изготовления тонких пленок

40 000,00 $
1 шт.(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

Отправить Запрос
Высокочистый цинковый оксид алюминия (AZO) Целевой материал, оксид цинка (ZnO), легированный оксидом алюминия (Al2O3), оксид магнетрона, связывание опорной плиты

Высокочистый цинковый оксид алюминия (AZO) Целевой материал, оксид цинка (ZnO), легированный оксидом алюминия (Al2O3), оксид магнетрона, связывание опорной плиты

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Отправить Запрос
4n Высокочистый азо Вращающийся разбрызгивательный объект для вакуума магнетрона Покрытие

4n Высокочистый азо Вращающийся разбрызгивательный объект для вакуума магнетрона Покрытие

300,00 $
1 шт.(MOQ)
Изменяемая цель для разбрызгивения, azo, алюминий, оксид цинка, ZnO Al2O3, высокая Чистота

Изменяемая цель для разбрызгивения, azo, алюминий, оксид цинка, ZnO Al2O3, высокая Чистота

300,00 $
1 шт.(MOQ)
4n Высокочистая азопальные трубы цель для вакуумного покрытия Magnetron Покрытие PVD

4n Высокочистая азопальные трубы цель для вакуумного покрытия Magnetron Покрытие PVD

300,00 $
1 шт.(MOQ)
4n 99.99% высокоочищенное азо-трубное покрытие для вакуумного покрытия Покрытие PVD

4n 99.99% высокоочищенное азо-трубное покрытие для вакуумного покрытия Покрытие PVD

300,00 $
1 шт.(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Отправить Запрос
Поворачиваемый Azo Target высокого качества отличается неравномерностью целевой

Поворачиваемый Azo Target высокого качества отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Хорошего качества приклеивания Azo отличается неравномерностью Target ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/ 99: 1wt %

Хорошего качества приклеивания Azo отличается неравномерностью Target ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/ 99: 1wt %

Цена Договорная
2 Куски(MOQ)
Вращающийся Azo Target Al2O3: ZnO целевой

Вращающийся Azo Target Al2O3: ZnO целевой

0,01-0,09 $
1 шт.(MOQ)
Поворачиваемый Azo Target, магнетрон отличается неравномерностью, ZnO. Al2O3, цинка оксид алюминия целевой

Поворачиваемый Azo Target, магнетрон отличается неравномерностью, ZnO. Al2O3, цинка оксид алюминия целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

Отправить Запрос
Кобальт мишенью для отличается неравномерностью покрытие

Кобальт мишенью для отличается неравномерностью покрытие

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Высокое качество горячая продажа кобальта отличается неравномерностью целевой

Высокое качество горячая продажа кобальта отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
(ZnO Azo/Al2O3 98: 2wt%) целевой показатель в отношении отличается неравномерностью

(ZnO Azo/Al2O3 98: 2wt%) целевой показатель в отношении отличается неравномерностью

10,00 $
1 шт.(MOQ)
Цель Sputtering кобальта плоскостная для сбывания

Цель Sputtering кобальта плоскостная для сбывания

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

Отправить Запрос
АЦЕТРОН 4N 99.99% Целевой сплошной мишень с высокой чистотой для вакуумного/ПВД покрытия

АЦЕТРОН 4N 99.99% Целевой сплошной мишень с высокой чистотой для вакуумного/ПВД покрытия

99,00-99 999,00 $
1 шт.(MOQ)
АЦЕТРОН 4N 99.99% Целевой планарный сплав оксида алюминия и цинка высокой чистоты для вакуумного/ПВД покрытия

АЦЕТРОН 4N 99.99% Целевой планарный сплав оксида алюминия и цинка высокой чистоты для вакуумного/ПВД покрытия

99,00-99 999,00 $
1 шт.(MOQ)
АЦЕТРОН 4N Целевой элемент из высокопурного ИТО для вакуумного покрытия/ПВД покрытия

АЦЕТРОН 4N Целевой элемент из высокопурного ИТО для вакуумного покрытия/ПВД покрытия

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
АЦЕТРОН 4N Мишень для распыления с высокой чистотой AZO для вакуумного/ПВД покрытия

АЦЕТРОН 4N Мишень для распыления с высокой чистотой AZO для вакуумного/ПВД покрытия

99,00-99 999,00 $
1 шт.(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

Отправить Запрос
Большой размер 99,99% ИТО целевой Indium Тин азота вращающихся Target и связующего вещества

Большой размер 99,99% ИТО целевой Indium Тин азота вращающихся Target и связующего вещества

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Форма для выпечки Indium высокой чистоты азота отличается неравномерностью Target 99,99% 4n керамические ИТО Целевой

Форма для выпечки Indium высокой чистоты азота отличается неравномерностью Target 99,99% 4n керамические ИТО Целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
Керамические высокой чистоты целевых ИТО, Azo, Tzo Tiox, Nbox, Gzo, Sic, Zro2, Al2O3 отличается неравномерностью целевой

Керамические высокой чистоты целевых ИТО, Azo, Tzo Tiox, Nbox, Gzo, Sic, Zro2, Al2O3 отличается неравномерностью целевой

Цена Договорная
1 шт.(MOQ)
1/2
О Нас Заявление Пользовательское соглашение Политика конфиденциальности Связаться с Made-in-China.com Быстрый Поиск Продуктов Информация
Языковой Вариант: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Все права защищены.
Focus не несет ответственности за разницу между английской версией и другими языковыми версиями. Если есть конфликт, английская версия имеет преимущественную силу. Использование нашего сайта означает признание и принятие наших Терминов и Условий.