Лабораторная печь для отжига с быстрой регулировкой высоты

Вакуумная печь RTP (быстрая термообработка) представляет собой трубную печь с высоким вакуумом, оснащенная кварцевым камерным и вакуумным фланцами. В нем используется подогрев галогенных ламп, достигается высокая скорость нагрева  до 50°C в секунду, а также автоматическое  управление PID  с  30 программируемыми сегментами.

Эта высокотемпературная трубчатая печь, специально разработанная для отжига полупроводниковых или солнечных элементов, обеспечивает быструю термообработку образцов в  условиях вакуума или контролируемой атмосферы. Широко используется в  университетских лабораториях  и  промышленных исследовательских учреждениях  для таких применений, как:

• Осаждение тонкопленочных отложений

• Быстрое отжиг различных материалов

• Силицидие

• Диффузия

• Кристаллизация

• Уплотнение
   

  Параметр	2-дюймовый экран	4-дюймовый экран	6-дюймовый экран
  Размер пластины	2 дюйма	4 дюйма	6 дюйма
  Наружный диаметр трубы печи	100 мм	110-150 мм	180 мм
  Длина зоны нагрева	200 мм	300 мм	400 мм

  Примечание:  Другие размеры могут быть настроены в соответствии с требованиями заказчика.

   

  Сведения о продукте

  Функция	Технические характеристики
  Название продукта	RTP Быстрое прессование печи
  Рабочая температура	900°C.
  Контроллер	Светодиод (сенсорный экран, дополнительный)
  Нагревательная камера	Открытая конструкция с подвижными рейками
  Размер трубки	Возможность настройки в соответствии с требованиями
  Нагревательный элемент	Галогенные лампы
  Скорость нагрева	0–50 °C/с.
  Термопара	Специально спроектированы с учетом реальных потребностей
  Контроллер температуры	30-сегментный высокоточный цифровой программируемый контроллер

  В нижней части печи с подвижной трубой установлена пара скользящих рельсов, а на рельсах одновременно установлены две трубные печи. Печи можно перемещать влево и вправо для быстрого охлаждения. Эта печь для быстрого отжига RTP может нагревать образцы в различных условиях, таких как вакуум, атмосферные условия и условия воздуха. В основном используется для быстрого отжига, силификации, диффузии, кристаллизации, и других процессов для различных материалов.

  Параметр	Технические характеристики
  Дисплей	СВЕТОДИОД
  Температура	1200°C.
  Постоянная рабочая температура	≤1100°C.
  Скорость нагрева	Рекомендуется 0–10 °C/мин
  Труба печи	Размеры трубки: OD50/ID44 × L1800 мм
  	Первая печь: Зона нагрева Длина: 350 мм
  	Вторая печь: Длина зоны нагрева: 150 мм
  	(Другие размеры, настраиваемые в соответствии с требованиями заказчика)
  Нагревательный элемент	Проволока для нагрева молибденового дисилицида (MOSI)
  Скользящие рельсы/стол	Хромированные стальные двойные рельсы, длина скольжения: 1800 мм
  	(Другие размеры, настраиваемые в соответствии с требованиями заказчика)
  Термопара	Тип N
  Материал трубы	Кварц высокой чистоты
  Уплотнительный фланец	Фланец KF25 из нержавеющей стали с водяным охлаждением (с отверстием механического вакуумного манометра)
  Точность температуры	±1°C.
  Регулировка температуры	Две печи с независимым управлением
  	- 30-этапное автоматическое управление PID через регулирование мощности SCR

  

   Скользящая трехзонная трубная печь  представляет собой быстродействующую термопечь с кварцевым тюкменом диаметром 80 мм и максимальной температурой 1200°C. Печь оснащена парой скользящих рельсов в нижней части, что позволяет печи перемещаться с одной стороны трубы на другую для быстрого нагрева и охлаждения.

  Для достижения максимально быстрого нагрева нагрейте печь до нужной температуры, а затем переместите ее в положение для образца. Для быстрого охлаждения просто сдвиньте печь от образца после завершения нагрева.

  Эта система является  идеальным недорогомным решением для быстрой термообработки (RTP).
   

  Параметр	Технические характеристики
  Структура оболочки	Двухслойное воздушное охлаждение
  Материал камеры печи	Огнеупорное волокно из глинозема
  Макс. Температура	1200°C.
  Рабочая температура	1100°C.
  Скорость нагрева	10°C/мин
  Нагревательный элемент	Провод сопротивления
  Регулировка температуры	ПИД-регулирование температуры поддерживает 30-сегментные программы нагрева/охлаждения, с защитой от перегрева и разрыва термопары
  Термопара	Тип N
  Длина зоны нагрева	220 мм + 220 мм + 220 мм (другие размеры можно настроить по запросу)
  Размер трубы печи	Диаметр 80 мм × 2400 мм (другие размеры по запросу)
  Труба печи	Кварцевая трубка высокой чистоты
  Скользящие направляющие	Хромированные стальные двойные рельсы
  Длина рельса	~2500 мм (другие размеры по запросу могут быть индивидуально конфигурируемые)
  Фланец	304 уплотнительный фланец из нержавеющей стали с силиконовым уплотнительным кольцом, простая сборка, многоразовый
  Совместимый газ	Инертный газ (небольшое положительное давление)

 Эта печь для отжига RTP (Rapid Thermal Processing)  состоит из  печи для сдвигающих труб RTP,  многоканальной системы контроллера массового расхода и  вакуумной системы, специально разработанной для отжига полупроводниковых пластин, солнечных элементов или других образцов (размером до 3").

В трубной печи используется  инфракрасное нагревание лампы, что обеспечивает сверхбыструю скорость нагрева  50°C в секунду. Он оснащен  30-сегментным прецизионного регулирования температуры  с точностью  ±1°C. Печь оснащена  интерфейсом RS485 и программным обеспечением управления, которое позволяет управлять ей и контролировать ее с помощью компьютера, отображая кривые температуры в реальном времени.

 Эта термопроцессорная печь широко  используется для  роста двумерного графена на больших площади с помощью CVD  и оптимизирована для  отжига полупроводниковых и солнечных батарей. Компьютер управляет печью в режиме реального времени через  интерфейс RS485 и специальное программное обеспечение, одновременно визуализируя температурные профили.

Часть 2: Система смешивания газа

Часть 3: Вакуумная система

Печь для быстрого отжига оснащена вакуумными фланцами на обоих концах трубы печи. Уровень вакуума может достигать 10^-5 торр с молекулярным насосом и 10^-3 торр с механическим насосом. В нижней части печи установлена пара направляющих скольжения, что позволяет осуществлять ручное перемещение. Максимальная скорость нагрева и охлаждения может достигать 100°C в минуту. Для достижения максимально быстрого нагрева печь можно предварительно разогреть до заданной температуры, а затем переместить в положение для образца. Для быстрого охлаждения печь можно переместить на другой конец после нагрева образца. При работе в условиях вакуума или инертного газа скорость нагрева и охлаждения может достигать 10°C в секунду, что делает его идеальной недорогой печью для быстрой термической обработки.