• Dia301.625мм Большая вольфрамовая цель, 99.999% вольфрам Металл W sputtering цель
  • Dia301.625мм Большая вольфрамовая цель, 99.999% вольфрам Металл W sputtering цель
  • Dia301.625мм Большая вольфрамовая цель, 99.999% вольфрам Металл W sputtering цель
  • Dia301.625мм Большая вольфрамовая цель, 99.999% вольфрам Металл W sputtering цель
  • Dia301.625мм Большая вольфрамовая цель, 99.999% вольфрам Металл W sputtering цель

Dia301.625мм Большая вольфрамовая цель, 99.999% вольфрам Металл W sputtering цель

Type: Metal Target
Shape: Round
чистота: 99.999% мин
химический состав: w
Транспортная Упаковка: Vacuum Packed or Per Customer′s Request.
Характеристики: Dia301.625mm

Связаться с Поставщиком

Золотое Членство с 2022

Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями

Производитель/Завод
  • Обзор
  • Описание продукта
  • Выставка продуктов
  • Профиль компании
  • Наша служба
  • ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ
Обзор

Основная Информация.

Модель №.
UL-01
Торговая Марка
Rheniumet
Происхождение
Hunan, China
Код ТН ВЭД
4301962010
Производственная Мощность
10000000 Kilogram/Kilograms Per Month

Описание Товара

Описание продукта

Применение:

Вольфрамовые мишени высокой чистоты, вольфрамовые мишени высокой чистоты из титанового сплава и вольфрамово-кремниевые композитные мишени обычно применяются при напыление магнетрона для производства различных сложных и высокопроизводительных тонких пленочных материалов. Поскольку вольфрам высокой чистоты или сверхчистый вольфрам (5 Н или 6 Н) обладает высокой устойчивостью к электрон-миграции, высокой температурной стабильностью и способностью формировать стабильные силициды, он часто используется в качестве тонкой пленки в электронике как ворота, соединения, перехода и барьерный металл. Вольфрам сверхвысокой чистоты и силициды также используются в сверхкрупных интегральных схемах как слои сопротивления, диффузионные барьеры и т. д., а также в качестве материалов литника и соединительных материалов в полупроводниковых транзисторах с оксидом металла. Мишени для напыления вольфрамово-титанового сплава часто используются для создания переходных металлических слоев тонкопленочных солнечных элементов.

 

Технические характеристики:

Имя

Молекулярная формула Технические характеристики

Размер

Относительная плотность Размер зерна Частота дефектов
Вольфрамовый мишень

W

4 Н(99.99%)

Дюйм

мм

≥99%

≯50 мкм

0

5 Н(99.999%)

D(2,3,4,6,8,10,12)

H(0.25,0.5,0.75)

Диаметр 50~350

Толщина 6~25

Вольфрамовая титановая мишень

WTi10

WTi20

4 Н(99.99%)

≥99%

≯50 мкм

0

4N5 (99.995%)

 

Химический компонент

           Класс спецификации

Химический индекс

 W/(W+Ti)≥99.99%

 W/(W+Ti)≥99.995%

 W≥99.999%

Полное загрязнение следами

≯100 ppm

≯50 ppm

≯10 ppm

Индекс примесей (ppm)

Макс

Стандартное значение Макс Стандартное значение Макс Стандартное значение

Радиоактивные элементы

U

-

0.2

0.1

0.05

0.0008

0.0005

Я

-

0.2

0.1

0.05

0.0008

0.0005

Элементы из щелочного металла

Ли

1

0.05

0.02

0.01

0.01

0.003

Нет

5

1

0.5

0.2

0.1

0.05

K

5

1

0.1

0.05

0.05

0.03

MO,Re

10

5

10

5

1

0.5

FE,Cr

10

5

5

3

0.5

0.3

CA,Si,Cu,Ni,Al,Zn,SN,MN,Co,Hg,V

2

1

0.5

0.3

0.2

0.2

P,AS,SE

2

1

0.5

0.2

0.2

0.2

B,Pb,SB,Be,Ba,Bi,CD,GE,NB,Pt,Mg,ZR,Au,in,GA,AG

1

0.5

0.5

0.1

0.1

0.1

Все другие отдельные элементы

1

0.5

0.5

0.1

0.1

0.1

Анализ газа

(≯, ppm)

О

C

N

H

С.

30

20

20

20

10

 

В зависимости от назначения, существуют различные требования к содержанию примесей вольфрамовых мишеней высокой чистоты и вольфрамово-титановых мишеней. Как правило, химическая чистота должна быть в пределах от 99.99% до 99.999%. Мы также можем настроить другие спецификации, подходящие для применения в соответствии с требованиями пользователя.

 
 

Выставка продуктов

 
Dia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering Target
Dia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering Target
 
 
 
 
 
 
 
 

Профиль компании

 

Dia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering TargetDia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering TargetDia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering TargetDia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering TargetDia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering TargetDia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering TargetDia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering Target

Наша служба

Dia301.625mm Big Tungsten Target, 99.999% Wolfram Metal W Sputtering Target

ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ

В: Вы торгуете компанией или производителем?
О: Мы заводим.

В: Сколько времени у вас будет доставка?
Ответ: Обычно это 3-7 дней, если товар есть на складе. Или 15-20 дней, если товар не находится на складе, то это соответствует
количество.

В: Вы предоставляете образцы? это бесплатно или дополнительно?
Ответ: Да, мы можем предложить образец, но должны платить стоимость образца и груза, так как наш продукт является высокой ценностью.

В: Каковы ваши условия оплаты?
A: Оплата<=1000USD, 100% аванса. Оплата>=1000 USD, 30% T/T заранее, баланс перед отправкой.
Если у вас есть другой вопрос, свяжитесь с нами, как указано ниже:

Заголовок здесь.

Полуавтоматическая машина выдувания бутылок ПЭТ изготовление бутылок машина изготовления бутылок машины формовки бутылок ПЭТ машина изготовления бутылок ПЭТ подходит для производства пластиковых ПЭТ контейнеров и бутылок любой формы.

Отправить ваш запрос напрямую данному поставщику

*От:
*Кому:
*Сообщение:

Введите от 20 до 4000 символов.

Это не то, что вы ищете? Опубликовать Спрос на Закупки Сейчас