Оборудование исследовательской лаборатории полупроводникового университета, машина для чипов, система реактивного ионного травления

• Послепродажное обслуживание: 1 год
• Гарантия: 1 год
• Тип: ри
• Модель №.: MD150
• Сертификация: CE
• Офорт Тип: Двухместный Spray
• Точность: Высокоточный
• Состояние: Новый
• Транспортная Упаковка: деревянный ящик
• Торговая Марка: мэндер-хай-тек
• Происхождение: Китай
• Производственная Мощность: 1000

Описание Товара

Система травления реактивных ионов (RIE)

Реактивное ионное травление (RIE) может использоваться для подготовки микронано-структур и является одной из технологий производства полупроводников. В процессе травления РЭИ различные активные частицы в плазме образуют летучие продукты с поверхностью материала. Эти продукты отнимаются от поверхности материала, и, наконец, достигается анизотропная микроструктура травления поверхности материала. Продукты серии RIE (Reactive ion ion ion etcher) основаны на плоской емкостной технологии плазменной резки и подходят для узорчатой гравировки кремниевых материалов, таких как однокристальный кремний, поликристаллический кремний, нитрид кремния (Siny), оксид кремния (SiO), кварц (Quartz) и карбид кремния (SiC); Может использоваться для создания узора и расслоения материалов, например фоторезиста (PR), PMMAHDMS и других материалов; может использоваться для физического травления металлических материалов, таких как никель (Ni), хром (Cr) и керамические материалы; может использоваться для травления материалов, содержащих индий (InP), при комнатной температуре. Для некоторых травлений с более высокими требованиями к процессу также можно использовать травление ICP RIE.


Основная конфигурация:
1. Поддержка размера образца: 4, 8, 12 дюймов, совместимость с различными образцами малого размера, поддержка настройки
2. Диапазон мощности плазмы РЧ: 300/500/1000 Вт (дополнительно);
3. Молекулярный насос: Дополнительный комплект насоса для защиты от коррозии 620/1300 //с;
4. Насос переднего привода: механический масляный насос/сухой насос (опция);
5. Управление давлением: 0 ~1 торр (дополнительно); также можно выбрать конфигурацию режима без управления давлением,
6. Технологический газ: Одновременно может быть оборудовано до 9 технологических газов; температура: 10 градусов ~ температура в помещении / -30 градусов ~ температура в помещении / настраиваемый диапазон температур,
9. Охлаждение гелия в задней части может быть настроено в соответствии с применением;
10 съемная облицовка для защиты от загрязнения;
11. Блокировка нагрузки (дополнительно);
12. Полностью автоматическая система управления одной кнопкой;

ПРИМЕНИМЫЕ МАТЕРИАЛЫ RIE:
1. Материалы на основе кремния: Кремний (Si), диоксид кремния (SiO2), нитрид кремния (SiNx), карбид кремния (SiC)
2. III-V материалы: Фосфид натрия (InP), мышьяк галлия (GaAs), нитрид галлия (GaN)
3 материалы II-VI: Теллурид кадмия (CdTe)
4. Магнитные материалы/легированные материалы
5. Металлические материалы: Алюминий (AI), золото (Au), вольфрам (W), титан (Ti), тантал (Ta)
6. Органические материалы: Фоторезист (PR), органический полимер (PMMA/HDMS), органическая тонкая пленка

Приложения, СВЯЗАННЫЕ С RIE:
1. Гравировка материалов на основе кремния, наноимпринтов, массивов и линзовая узоры;
2. Температурное гравирование индиевого фосфида (InP), создание узорчатых травлений устройств на базе InP в оптических коммуникациях, включая структуры волновода, резонансные структуры полости и структуры гряда;
3. Гравировка материалов SiC, пригодных для микроволновых устройств, силовых устройств и т.д.;
4. К некоторым металлам применяется физическое протравливание, например к никелю (Ni), хрому (Cr), керамике и другим материалам, которые трудно поддаются химической обработке, а также обеспечивается создание массива путем физического обстрела;
5. Травление органических материалов применяется для травления, очистки и удаления органических материалов, таких как фоторезист (фоторезист), PMMA, HDMS, полимер;
6. Удаление слоев для анализа отказов микросхем (анализ отказов-FA);
7. Гравировка двумерных материалов: W, Mo двумерные материалы, графен;

Результаты применения:

Конфигурация проекта и схема структуры машины

Пункт	MD150-RIE	MD200-RIE	MD200C-RIE
Размер изделия	≤6 дюйма	≤8 дюйма	≤8 дюйма
Источник РЧ-мощности	0 Вт/500 Вт/1000 Вт регулируемый, автоматическое согласование
Молекулярный насос	-/620(л/с)/1300(л/с)/Пользовательский		Антисептика620(л/с)/1300(л/с)/Пользовательский
Косопощадная насос	Механический насос/сухой насос		Сухой насос
Давление процесса	Неконтролируемое давление/0-1Уконтролируемое давление
Тип газа	H/CH4/O2/N2/AR/SF6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/ПОЛЬЗОВАТЕЛЬСКИЙ (До 9 каналов, без коррозионного и токсичного газа)		H2/CH4/O2/N2/AR/F6/CF4/ CHF3/C4F8/NF3/Cl2/BCl3/HBR (до 9 каналов)
Диапазон газов	0–5 ссм/50 ссм/100 ссм/200 ссм/300 ссм/500 ссм/пользовательский
Блокировка нагрузки	Да/Нет		Да
Контроль образца	10°C~Room tem/-30°C~100°C/Custom (Пользовательский)		-30°C~100°C /Пользовательский
Охлаждение гелием спины	Да/Нет		Да
Внутренняя панель технологической полости	Да/Нет		Да
Управление стенками гнезд	No/Roomtem~60/120°C (Нет/Роомтем~0/2°C)		Помещение tem-60/120°C
Система управления	Авто/Пользовательич
Травление материала	Кремниевая: Si/SiO2/SiNx ··· IV-IV: НИЦ Магнитные материалы/легированные материалы Металлический материал: NI/Cr/Al/Au ..... Органический материал: PR/PMMA/HDMS/Органический фильм......		На основе кремния: SI/SiO2/SiNx...... III-V(3): INP/GaAs/GaN...... IV-IV: НИЦ II-VI (3): CdTe...... Магнитные материалы/легированные материалы Металлический материал: NI/Cr/A1/Au...... Органический материал: PR/PMMA/HDMS /органическая пленка...

Съемка на заводе и в лаборатории:

Пакет:

Мinder-Hightech является торговым представителем и представителем по обслуживанию оборудования для полупроводниковой и электронной промышленности.  
С 2014 года компания стремится предоставлять клиентам превосходные, надежные и комплексные решения для оборудования.  

ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ
1. О цене:
Все наши цены являются конкурентоспособными и договорными. Цена зависит от сложности конфигурации и настройки устройства.

2. О пробе:
Мы можем предоставить вам образцы производственных услуг, но вы можете предоставить некоторые сборы.

3. О платеже:
После подтверждения плана, Вам необходимо сначала оплатить депозит, и завод начнет подготовку товара. После того, как оборудование готово и вы платите баланс, мы его доперевозим.

4. О доставке:
После завершения производства оборудования мы отправим вам приемочное видео, а также вы можете приехать на объект для осмотра оборудования.

5. Установка и отладка:
После доставки оборудования на завод мы можем направить инженеров для установки и отладки оборудования. Мы предоставляем вам отдельное предложение за эту плату за обслуживание.

6. О гарантии:
На наше оборудование действует 12-месячный гарантийный период. После гарантийного периода, если какие-либо детали повреждены и требуют замены, мы будем взимать только стоимость.