Function: | Storage Pressure Vessel |
---|---|
Application: | Gas |
Material: | Stainless Steel |
Pressure: | 10.0MPa≤p<100.0MPa |
Storage Medium: | Food Grade CO2 |
Pressure Level: | High Pressure (10.0MPa≤p<100.0MPa) |
Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями
1. Приложения и конкретных деталей Газов | ||||
Гелий высокой чистоты (ОН) | ||||
Основные Приложения: Используется В Исследовании Ultralow Температуры, Газовых Хроматографов Анализа, Сварка цветных металлов, Утечка, Химического Осаждения фазы газа, Роста кристаллов, Конфигурация Плазмы, Сухой, Специальная Подготовка рабочей смеси, Используется В качестве Стандартного Газ, Баланса газа, медицинских Газов, Надувных Шаров, Трубы, Подходит для подводного плавания И т. Д. |
||||
Название Газа | Технические характеристики | Содержание примеси(10-6) | Стандартный Номер | |
Он | 99, 999% | Ne≤4 O2≤1, 0 H2≤1 N2≤2 CO≤0, 5 CO2≤0, 5 CH4≤0, 5 H2O≤3 | Гб/T48443-1995 | |
99.995% | Ne≤15 O2≤3 H2 ≤≤3 N2 10 CO≤1 CO2≤1 CH4≤1 H2O≤10 | Гб/T48442-1995 | ||
Закись Азота (N2O) | ||||
Цель: 1. Медицины: Не подвержен воздействию Регулирующего Давление крови, Коробка передач, Физиологические И Физиологических Функций , таких Как Запрет на включение Platelet Агрегирования 2. Нефтехимических Областях: В Области Нефтехимической Промышленности В Целях разработки Новых Приложений, Используемых В Реакции полимеризации Прекращения 3. В ДРУГИХ ОБЛАСТЯХ: Хладагентов, Accelerant, Консервантов, Химического Сырья , Атомной Абсорбционной Спектрометрии С использованием Газа, Производство полупроводников С Равновесной Системы впрыска сжиженного газа Оператор, Окисление, Стандартных Газовых И Дым, Давление вакуума Для обнаружения утечек Кассеты , оператора И т. Д. |
||||
Название Газа | Технические характеристики | Содержание примеси(10-6) | Стандартный Номер | |
N2O | 99, 9%/99, 999% | CO≤5 CO2≤10 Галогенные≤0, 2 ≤влажности 100 Нет, NO2≤0, 5 NH3≤5 | CP2005 & Q/Ч3901-1999 | |
Аргон высокой чистоты (Ar) | ||||
Цель: Используется Для Сварки, Нержавеющая Сталь Производства и Плавки Из Цветных Металлов, Также Используются В Процессе производства полупроводников Inchemical Осаждения паров, Кристально чистый Звук , Strong Окисления, Добавочный номер, Диффузия, Поликремния, Лампы накаливания, Ионная Имплантация, Агломерации и Т. Д. Используется В качестве Стандарт газ, Нулевой Баланс Поставок российского природного газа В Газовых Хроматографов Перевозчика Газ и Т. Д. |
||||
Название Газа | Технические характеристики | Содержание примеси(10-6) | Стандартный Номер | |
Ar | 99.9993% | N2≤4 O2≤1 H2≤1 ТГК≤1 H2O≤2, 6 | Гб/T4842-2006 | |
99, 999% | N2≤5 O2≤2 H2≤1 ТГК≤2 H2O≤4 | |||
Выбросы Двуокиси углерода высокой чистоты | (CO2) | |||
Цель: Лазерный, Электронной Промышленности, Реактор Температура охлаждающей жидкости, Научные Исследования и Т. Д. | ||||
Название Газа | Технические характеристики | Содержание примеси(10-6) | Стандартный Номер | |
CO2 | 99, 99% | H2 50 O2≤≤10 N2≤50 CO≤5 ТГК≤5 H2O≤15 | Стандарт предприятия | |
99.995% | H2 20 O2≤≤5 N2≤30 CO≤2 ТГК≤3 H2O≤8 | |||
99, 999% | H2≤5 O2≤1 N2≤3 CO≤0, 5 ТГК≤2 H2O≤3 |
Поставщики с проверенными бизнес-лицензиями