PVD вакуум отличается неравномерностью хром покрытие машины,хром покрытие оборудования
1. вакуумного процесса;
2. не связанных с загрязнением окружающей среды
3. На основе металлических и красочной пленки
4. Полностью автоматическая
Оборудование используется магнетрон отличается неравномерностью катодом выполнения метода ionize запальных свечей и сдачи в молекуле(target) на основании материалов(PVD), а также сопротивление методом нагрева в вакуум, чтобы расплавить металлической проволоки и или испаряются в молекуле металла. Таким образом он может metallize пластмассовую поверхность базовый материал, мобильный телефон и т.д. оболочки с помощью специальных съемок для обеспечения функции nonconductive продуктов и электромагнетизма экрана и тем самым достичь уровня high-end электронной продукции обрабатывающей промышленности.
Характеристика: оборудование включает в себя обращение с плазменным экраном, high-end катодной магнетрон отличается неравномерностью, сопротивление покрытие для испарения. Покрытие фильм с высокой плотностью и твердости с низким коэффициентом трения, сохранить гладкость поверхности заготовки оригинала, гибкость, трудно разорвать и упасть.
Применяется промышленности: пластик, керамические, компьютер, мобильный телефон и high-end промышленности и бытовой прибор, авиации и т.д. можно нанести на составные металлические пленки, сплав пленки, прозрачных (прозрачной) пленки, пленки, nonconductive электромагнетизма щиток пленки, пленки и т.д.
Это наша отличается неравномерностью машины:
Образцы с покрытием на станке
Более подробную информацию о наших вакуумный покрытие машины, пожалуйста, не обращайтесь к:
Контактное лицо: Mandy Лю
Технические характеристики:
| Режим измерения |
JTZ-1200 |
JTZ-1200 |
JTZ-1400 |
JTZ-1400 |
| 1200*1400 мм |
1250*1500 мм |
1400*1700 мм |
1400*1800 мм |
| Тип пленки |
Питание пленки прозрачные пленки, пленки, nonconductive электромагнетизма щиток пленки, диэлектрической пленки и т.д. |
| Источник питания |
Сопротивление испарения, питания постоянного тока питания магнетрона, ВЧ мощность |
| Отличается неравномерностью и структуры электродов |
Колонка магнетрона, плоскости прямоугольник, двойной цели, испарения электрода. |
| Вакуумную камеру структуры |
Вертикальные двойные двери, вертикальные одной двери, насос системы postposition горизонтальной одной двери, насос системы на стороне. |
| В конечном итоге вакуум |
4.0*10 -4 Pa |
| Вакуумная система |
Насос диффузии +корни насос +механический насос +проведение насоса |
| Время работы насоса |
Насос из атмосферы на 8,5*10 -3 , ниже минут |
| Режим движения заготовки |
Общественной ротации/ устройства управления частотой |
| Режим управления |
Ручной / автоматический режим - все в одном режиме нажмите на экране + с программируемым логическим контроллером |
| Примечание |
Мы можем дизайн размер оборудования в соответствии со специальным методом. |
Сертифицированный Поставщик 
