Описание Товара
Информация о Компании
Описание Товара
(CNM smogло обеспечить материал цели высокого качества для поля электрического и стекло полупроводниковых устройств, плоския экрана, архитектурноакустических и автомобильных, фотоэлемент тонкой пленки, магнитное хранение, аппаратура, украшает тонкую пленку, etc.)
Материал цели sputtering металла высокой очищенности (3N-6N):
Алюминиевая цель (Al), цель хромия (Cr), медная цель (Cu), цель никеля (Ni), цель кремния (Si), цель германего (Ge), цель ниобия (N.B.), titanium цель (Ti), цель индия (внутри), серебряная цель (AG), цель олова (Sn), цель графита, цель тантала (Ta), цель молибдена (Mo), цель золота (Au), цель гафния (Hf), цель марганца (Mn), цель циркония (Zr), цель магния (Mg), цель цинка (Zn), цель руководства (Pb), цель иридия (иК), цель иттрия (y), цель церия (CE), цель лантана (La), цель иттербия (Yb), цель gadolinium (Gd), цель платины (PT), etc.
High-density керамическая цель (3N-5N):
Цель ITO, АЗО цель, цель IGZO, цель окиси магния (MGO), цель окиси иттрия (Y2O3), цель окиси утюга (Fe2O3), цель окиси никеля (Ni2O3), цель окиси хромия (Cr2O3), цель окиси цинка (ZnO), цель сульфида цинка (ZnS), цель сульфида кадмия (CDS), цель дисульфида молибдена (MOS2), цель двуокиси кремния (SiO2), цель одноокиси кремния (SiO), цель двуокиси циркония (ZrO2), цель пентоксида ниобия (Nb2O5), titanium двуокись (TiO2), цель окиси гафния (HfO2), titanium цель борида (TiB2), цель diboride циркония (ZrB2), вольфрамовая цель окиси (WO3), цель алюминиевой окиси (Al2O3), цель пентоксида тантала (Ta2O5), цель фторида магния (MgF2), цель селенида цинка (ZnSe), алюминиевая цель нитрида (AlN), цель нитрида кремния (согрешение), цель азотистого бора (BN), titanium цель нитрида (олово), цель карбида кремния (SiC), цель ниобата лития (LiNbO3), цель титаната praseodymium (PrTiO3), цель титаната бария (BaTiO3), цель титаната лантана (LaTiO3), и так далее.
Примечание: Керамической целью произведенной в CNM принимает самую предварительную керамическую технологию спекать изостатический отжимать предохранения от газа technology_inert продукции горячую, относительная плотность будет терка чем 95-99%. В добавлении, CNM smogло обеспечить с металлизируя процессом цели и unbounded обслуживаний.
Цель sputtering сплава высокой очищенности: цель сплава Никел-ванадия (ni-V), цель никел-хромия (Ni-Cr), цель сплава титан-алюминия (Ti-Al), цель сплава кремни-алюминия (Si-Al), цель сплава мед-индия (Cu-В), цель сплава мед-галлия (Cu-Ga), цель сплава мед-инди-галлия (Cu-В-Ga), цель сплава мед-инди-галли-селена (Cu-В-Ga-Se), цель нержавеющей стали, цель сплава цинк-алюминия (Zn-Al), цель сплава вольфрам-титана (W-Ti), iron-cobalt цель сплава (Fe-Co), etc.
Примечание: Цель sputtering сплава высокой очищенности продукта CNM: Малюсенький номер размера зерна (150-60um), высокая относительная плотность (99-99.9%), высокая очищенность (99.9-99.999%).
В добавлении, CNM обеспечивает с металлизируя процессом материалов цели и unbounded обслуживаний.
Материал цели sputtering металла высокой очищенности (3N-6N):
Алюминиевая цель (Al), цель хромия (Cr), медная цель (Cu), цель никеля (Ni), цель кремния (Si), цель германего (Ge), цель ниобия (N.B.), titanium цель (Ti), цель индия (внутри), серебряная цель (AG), цель олова (Sn), цель графита, цель тантала (Ta), цель молибдена (Mo), цель золота (Au), цель гафния (Hf), цель марганца (Mn), цель циркония (Zr), цель магния (Mg), цель цинка (Zn), цель руководства (Pb), цель иридия (иК), цель иттрия (y), цель церия (CE), цель лантана (La), цель иттербия (Yb), цель gadolinium (Gd), цель платины (PT), etc.
High-density керамическая цель (3N-5N):
Цель ITO, АЗО цель, цель IGZO, цель окиси магния (MGO), цель окиси иттрия (Y2O3), цель окиси утюга (Fe2O3), цель окиси никеля (Ni2O3), цель окиси хромия (Cr2O3), цель окиси цинка (ZnO), цель сульфида цинка (ZnS), цель сульфида кадмия (CDS), цель дисульфида молибдена (MOS2), цель двуокиси кремния (SiO2), цель одноокиси кремния (SiO), цель двуокиси циркония (ZrO2), цель пентоксида ниобия (Nb2O5), titanium двуокись (TiO2), цель окиси гафния (HfO2), titanium цель борида (TiB2), цель diboride циркония (ZrB2), вольфрамовая цель окиси (WO3), цель алюминиевой окиси (Al2O3), цель пентоксида тантала (Ta2O5), цель фторида магния (MgF2), цель селенида цинка (ZnSe), алюминиевая цель нитрида (AlN), цель нитрида кремния (согрешение), цель азотистого бора (BN), titanium цель нитрида (олово), цель карбида кремния (SiC), цель ниобата лития (LiNbO3), цель титаната praseodymium (PrTiO3), цель титаната бария (BaTiO3), цель титаната лантана (LaTiO3), и так далее.
Примечание: Керамической целью произведенной в CNM принимает самую предварительную керамическую технологию спекать изостатический отжимать предохранения от газа technology_inert продукции горячую, относительная плотность будет терка чем 95-99%. В добавлении, CNM smogло обеспечить с металлизируя процессом цели и unbounded обслуживаний.
Цель sputtering сплава высокой очищенности: цель сплава Никел-ванадия (ni-V), цель никел-хромия (Ni-Cr), цель сплава титан-алюминия (Ti-Al), цель сплава кремни-алюминия (Si-Al), цель сплава мед-индия (Cu-В), цель сплава мед-галлия (Cu-Ga), цель сплава мед-инди-галлия (Cu-В-Ga), цель сплава мед-инди-галли-селена (Cu-В-Ga-Se), цель нержавеющей стали, цель сплава цинк-алюминия (Zn-Al), цель сплава вольфрам-титана (W-Ti), iron-cobalt цель сплава (Fe-Co), etc.
Примечание: Цель sputtering сплава высокой очищенности продукта CNM: Малюсенький номер размера зерна (150-60um), высокая относительная плотность (99-99.9%), высокая очищенность (99.9-99.999%).
В добавлении, CNM обеспечивает с металлизируя процессом материалов цели и unbounded обслуживаний.
Адрес:
Room A-320, Zhongguancun Science and Technology Park, Yongtai Middle Street 25, Haidian District, Beijing, China
Тип Бизнеса:
Торговая Компания
Диапазон Бизнеса:
Инструменты и Приборы, Компьютерные Товары, Металлургия, Минерал и Энергия, Производительный и Обрабатывающий Механизм, Промышленное Оборудование и Компоненты, Свет и Освещение, Строительство и Украшение, Транспорт, Химическая Промышленность, Электричество и Электроника
Основные Товары:
Покрытие материалов, отличается неравномерностью, высокой степенью чистоты материалов для материалов, металлический порошок материалов
Введение Компании:
Отель расположен в Zhongguancun науки и техники парк, Китай Новые металлические материалы Technology Co., Ltd. (далее упоминается как CNM), - это один из китайских цветных металлов отрасли, специализирующихся в области научных исследований и разработки новых материалов. В качестве инициатора ведущих предприятий в отрасли, CNM включает в себя множество R & D института и высших учебных заведений высшего ресурсы, поглощает национальные и международные современной науки и опыт управления. Богатые в таланты и фондов, и сдал ISO9001-2008 системы контроля качества и сертификации ISO14001 окружающей среды системы сертификации, принадлежит независимым импорта и экспорта.
CNM, к счастью, преимущества в R & D от всех видов металлических материалов, кромочный материал, отличается неравномерностью целевого материала, функциональная сплава материалов и прикладных технологий. На основе большого технического, CNM разработала многие ряд новых материалов и около ста видов продукции торговых марок были широко применяются в таких отраслях как авиационных и космических, военных, infotronics, вакуумный покрытием, магнетрон отличается неравномерностью, металлургии и функциональный материал, биологической медицины и новой энергии. В настоящее время CNM имеет несколько производственных линий кромочный материал, отличается неравномерностью, металлических материалов и высокой степенью чистоты сплава и т.д., с современным производственным оборудованием и прогулочных судов.
В настоящее время наши заказчики имеют широкое распространение в более чем десяти странах и районах, как США и Европа, Япония, Корея, Тайвань и Гонконг в Китае, охватывающий более шести сотен единиц, в том числе некоторые известные предприятия и учреждения отечественных и иностранных военных исследований и перечислены компании.
CNM имеет в соответствии с ИТ-отдела департамента кромочный материал отличается неравномерностью, металлический порошок и сплава материалов. Тепло приветствуя новых и старых клиентов для получения. В соответствии с принципом территориальной целостности и на базе технологии, наша компания является глубоко привержен делу создания себя в качестве авианосца в новых металлических материалов.
CNM, к счастью, преимущества в R & D от всех видов металлических материалов, кромочный материал, отличается неравномерностью целевого материала, функциональная сплава материалов и прикладных технологий. На основе большого технического, CNM разработала многие ряд новых материалов и около ста видов продукции торговых марок были широко применяются в таких отраслях как авиационных и космических, военных, infotronics, вакуумный покрытием, магнетрон отличается неравномерностью, металлургии и функциональный материал, биологической медицины и новой энергии. В настоящее время CNM имеет несколько производственных линий кромочный материал, отличается неравномерностью, металлических материалов и высокой степенью чистоты сплава и т.д., с современным производственным оборудованием и прогулочных судов.
В настоящее время наши заказчики имеют широкое распространение в более чем десяти странах и районах, как США и Европа, Япония, Корея, Тайвань и Гонконг в Китае, охватывающий более шести сотен единиц, в том числе некоторые известные предприятия и учреждения отечественных и иностранных военных исследований и перечислены компании.
CNM имеет в соответствии с ИТ-отдела департамента кромочный материал отличается неравномерностью, металлический порошок и сплава материалов. Тепло приветствуя новых и старых клиентов для получения. В соответствии с принципом территориальной целостности и на базе технологии, наша компания является глубоко привержен делу создания себя в качестве авианосца в новых металлических материалов.
